特許
J-GLOBAL ID:200903066521627405

真空成膜装置のクリーニング方法及び真空成膜装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-324052
公開番号(公開出願番号):特開2001-140054
出願日: 1999年11月15日
公開日(公表日): 2001年05月22日
要約:
【要約】【課題】真空成膜装置の稼働率を低下させることなく、真空成膜装置の真空槽内の防着シールドをクリーニングする。【解決手段】真空槽1内の防着シールド4の裏面に高温媒体及び冷却媒体の循環を行う冷却媒体・高温媒体循環用パイプ6を設け、高温媒体をパイプに流すことで防着シールドを加熱し、次に冷却媒体をパイプに流すことで防着シールドを急冷すると、防着シールドと薄膜との熱膨張係数の差により防着シールドに堆積した薄膜がゴミとなって剥離する。そこで、成膜用配管5から成膜用ガスを流しながらバルブ8を開けると薄膜のゴミはかき集められて排気チャンバー7内に落ち込む。そこでバルブ8を閉にすることにより、ゴミは真空槽1から隔離された状態となる。
請求項(抜粋):
基板に所定の成膜を行う真空槽の内壁を被覆する防着シールドに堆積した薄膜を除去するに際し、前記防着シールドを前記真空槽に装着したままで前記除去を行うことを特徴とする真空成膜装置のクリーニング方法。
IPC (3件):
C23C 14/00 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/205
FI (3件):
C23C 14/00 B ,  C23C 16/44 J ,  H01L 21/205
Fターム (15件):
4K029AA09 ,  4K029BA46 ,  4K029CA05 ,  4K029DA10 ,  4K029FA09 ,  4K030DA06 ,  4K030KA22 ,  4K030KA26 ,  5F045BB08 ,  5F045EB02 ,  5F045EB06 ,  5F045EC05 ,  5F045EJ09 ,  5F045EK07 ,  5F045EK10
引用特許:
審査官引用 (4件)
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