特許
J-GLOBAL ID：200903066524109847

有機基担持シリカゲル

発明者：
森 寛

森 寛 について

, 
加藤 波奈子

加藤 波奈子 について


出願人/特許権者：
三菱化学株式会社

三菱化学株式会社 について


代理人 (1件)： 真田 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-188309
公開番号（公開出願番号）：特開2005-022899
出願日： 2003年06月30日
公開日（公表日）： 2005年01月27日
要約：
【課題】目的とする有機基を高濃度で担持するとともに、シャープな細孔分布を示し、耐熱性、耐水性、物性安定性等にも優れ、且つ生産性に優れるようにする。【解決手段】(a)細孔容積が0.5〜1.6ml/g、(b)比表面積が300〜900m2/g、(c)細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満、(d)直径がDmax±20%の範囲内にある細孔の総容積が、全細孔の総容積の40%以上、(e)非晶質であり、(f)全ケイ素原子のうち炭素原子と直接結合したケイ素原子の割合が0.1%以上であり、且つ、固体Si-NMR測定において、(g)下記式(I)Q4/(Q2+Q3)≧0.151×(Dmax)+1.01 ・・・式(I)を満足するとともに、(h)下記式(II)及び/又は下記式(III)D2/D1≦2 ・・・式(II)T3/(T1+T2)≦2 ・・・式(III)を満足するようにする。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(a)細孔容積が0.5〜1.6ml/gであり、 (b)比表面積が300〜900m2/gであり、 (c)細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満であり、 (d)直径がDmax±20%の範囲内にある細孔の総容積が、全細孔の総容積の40%以上であり、 (e)非晶質であり、 (f)全ケイ素原子のうち炭素原子と直接結合したケイ素原子の割合が、0.1%以上であり、 (g)固体Si-NMR測定において、Q2,Q3,Q4の各ピーク面積が、下記式(I) Q4/(Q2+Q3)≧0.151×(Dmax)+1.01 ・・・式(I) を満足し、且つ、 (h)固体Si-NMR測定において、D1,D2,T1,T2,T3の各ピーク面積が、下記式(II)及び/又は下記式(III) D2/D1≦2 ・・・式(II) T3/(T1+T2)≦2 ・・・式(III) を満足する ことを特徴とする、有機基担持シリカゲル。
IPC (1件)：
C01B33/159
FI (1件)：
C01B33/159
Fターム (26件)：
4G072AA28 ,  4G072BB05 ,  4G072BB13 ,  4G072CC04 ,  4G072GG01 ,  4G072HH30 ,  4G072LL06 ,  4G072MM40 ,  4G072PP03 ,  4G072RR05 ,  4G072RR19 ,  4G072TT05 ,  4G072TT08 ,  4G072TT09 ,  4G072TT19 ,  4G072TT30 ,  4G072UU07 ,  4G072UU08 ,  4G072UU09 ,  4G072UU11 ,  4G072UU12 ,  4G072UU13 ,  4G072UU15 ,  4G072UU17 ,  4G072UU25 ,  4G072UU27
引用特許：
審査官引用 (6件)
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