特許
J-GLOBAL ID：200903066592895796

パターン膜の製造方法、パターン膜、有機薄膜トランジスタ、有機発光デバイス、溶液滴下装置、パターン膜製造用マスク

発明者：
中西 康哲

中西 康哲 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-226347
公開番号（公開出願番号）：特開2009-056402
出願日： 2007年08月31日
公開日（公表日）： 2009年03月19日
要約：
【課題】低粘性の溶液を用いてパターン膜を容易に形成することができるパターン膜の製造方法を提供する。【解決手段】本発明のパターン膜の製造方法は、開口窓を有するマスクを基板上に設置し、前記開口窓を覆うように溶質と溶媒を含む溶液を滴下し、前記溶液中の溶媒を揮発させることによって前記開口部に対応した位置の前記基板上にパターン膜を形成し、その後、前記マスクを取り外す工程を備え、前記溶液は、滴下時の温度での粘度が0.3Pa・s以下であることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
開口窓を有するマスクを基板上に設置し、前記開口窓を覆うように溶質と溶媒を含む溶液を滴下し、前記溶液中の溶媒を揮発させることによって前記開口部に対応した位置の前記基板上にパターン膜を形成し、その後、前記マスクを取り外す工程を備え、前記溶液は、滴下時の温度での粘度が0.3Pa・s以下であることを特徴とするパターン膜の製造方法。
IPC (7件)：
B05D 1/32 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336 ,  H01L 51/05 ,  H01L 21/312
FI (7件)：
B05D1/32 B ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 627C ,  H01L29/28 100A ,  H01L21/312 A
Fターム (59件)：
3K107AA01 ,  3K107CC45 ,  3K107DD70 ,  3K107FF03 ,  3K107FF14 ,  3K107FF15 ,  3K107GG06 ,  3K107GG35 ,  4D075AC11 ,  4D075AD07 ,  4D075AD08 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB40Y ,  4D075CA22 ,  4D075CA23 ,  4D075CA36 ,  4D075CB08 ,  4D075DA06 ,  4D075DC22 ,  4D075EA05 ,  4D075EB13 ,  4D075EB14 ,  4D075EB16 ,  4D075EB22 ,  4D075EB32 ,  4D075EB37 ,  4D075EB39 ,  4D075EB52 ,  4D075EC43 ,  5F058AC04 ,  5F058AC10 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F110AA30 ,  5F110CC03 ,  5F110DD05 ,  5F110DD13 ,  5F110EE02 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE07 ,  5F110EE42 ,  5F110EE43 ,  5F110EE44 ,  5F110FF01 ,  5F110FF02 ,  5F110FF03 ,  5F110FF23 ,  5F110FF27 ,  5F110FF28 ,  5F110GG05 ,  5F110GG57 ,  5F110HK02 ,  5F110HK03 ,  5F110HK04 ,  5F110HK07 ,  5F110HK32 ,  5F110HK33 ,  5F110QQ01
引用特許：
出願人引用 (5件)
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