特許
J-GLOBAL ID：200903066611404154

パターンの形成方法

発明者：
安里 直生

安里 直生 について

, 
石田 伸二

石田 伸二 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-176228
公開番号（公開出願番号）：特開2001-005197
出願日： 1999年06月23日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：
【要約】【課題】感光性樹脂上の不要パターンを簡便な方法で消去できるようにし、パターン転写での焦点深度を拡大させると共に微細パターンの形成を容易にする。【解決手段】フォトマスクのパターンを感光性樹脂膜に転写する工程において、上記パターンを化学増幅型の感光性樹脂膜に転写した後、感光性樹脂膜に酸を発生させる工程と、上記感光性樹脂膜上に架橋材入り樹脂膜を形成する工程と、この感光性樹脂膜および架橋材入り樹脂膜に熱処理を施し上記感光性樹脂膜に発生した酸をこの架橋材入り樹脂膜に拡散させ、感光性樹脂と架橋材入り樹脂膜との界面領域の架橋材入り樹脂膜を架橋反応させ反応層を形成する工程と、反応層を残して架橋材入り樹脂膜を除去する工程とを有する。そして、上記感光性樹脂に転写したパターンのうち不要となる転写パターンを上記反応層で消去する。
請求項（抜粋）：
フォトマスク上のパターンを感光性樹脂膜に転写する工程において、前記パターンを化学増幅型の感光性樹脂膜に転写した後、前記感光性樹脂膜に酸を発生させる工程と、前記感光性樹脂膜を被覆するように架橋材入り樹脂膜を形成する工程と、前記感光性樹脂膜および架橋材入り樹脂膜に熱処理を施し、前記感光性樹脂膜に発生した酸を前記架橋材入り樹脂膜に拡散させ、前記感光性樹脂と架橋材入り樹脂膜との界面領域の前記架橋材入り樹脂膜を架橋反応させ反応層を形成する工程と、前記反応層を残して前記架橋材入り樹脂膜を除去する工程とを有し、前記感光性樹脂に転写したパターンのうち不要となる転写パターンを前記反応層で消去することを特徴とするパターンの形成方法。
IPC (3件)：
G03F 7/38 511 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/38 511 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 568
Fターム (28件)：
2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB00 ,  2H025CB59 ,  2H025FA12 ,  2H025FA28 ,  2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096BA20 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096FA10 ,  5F046AA13 ,  5F046AA17 ,  5F046AA25 ,  5F046BA04 ,  5F046BA08 ,  5F046CA04 ,  5F046CB17 ,  5F046KA10 ,  5F046LA18
引用特許：
審査官引用 (6件)
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