特許
J-GLOBAL ID：200903043195149395

フォトマスク及びその製造方法

発明者：
石田 伸二

石田 伸二 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 開口 宗昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-302904
公開番号（公開出願番号）：特開平11-143047
出願日： 1997年11月05日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：
【要約】【課題】 本発明の課題は、ハーフトーン位相シフトフォトマスクにより、半透明補助パターンマスクのフォーカス特性の改善を図ることができるフォトマスク及びその製造方法を提供することである。【解決手段】 メインパターンの周辺に半透明の補助パターンを配置したハーフトーン位相シフトマスクとする。この、ハーフトーン位相シフトマスクフォトマスクの透過光に所定の位相エラー(位相差の180度からのずれ)が生じるように設定することにより、半透明補助パターンによるメインパターンのフォーカス特性の傾きを補正する。
請求項（抜粋）：
メインパターン部と前記メインパターン周辺に配置された補助パターン部とを有し、前記補助パターン部が半透明のハーフトーン位相シフト膜からなる領域であることを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528
引用特許：
審査官引用 (4件)
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