特許
J-GLOBAL ID：200903066714224871

シャドウマスクパターンの形成方法

発明者：
金 振圭

金 振圭 について

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韓 尚辰

韓 尚辰 について

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康 熙哲

康 熙哲 について

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姜 有珍

姜 有珍 について


出願人/特許権者：
三星エスディアイ株式会社

三星エスディアイ株式会社 について


代理人 (3件)： 渡邊 隆 ,  志賀 正武 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-235505
公開番号（公開出願番号）：特開2006-188748
出願日： 2005年08月15日
公開日（公表日）： 2006年07月20日
要約：
【課題】 引張力を加えた状態でマスクフレームにまず溶接をし、レーザを利用して蒸着パターンを形成することによって大面積のマスク製作が容易で、かつ加工工程及び設備が簡単で加工時間を短縮が可能なシャドウマスクパターンの形成方法を提供すること。【解決手段】 シャドウマスク10をマスクフレーム20上に付着させる段階と、前記附着されたシャドウマスク10にパターンを形成する段階と、からなり、また、前記シャドウマスク10を前記マスクフレーム20上に付着させる段階は、前記シャドウマスク10を前記マスクフレーム20上に隣接させる段階と、前記シャドウマスク10に外力を加える段階と、前記マスクフレーム20上に外力が加えられた前記シャドウマスク10を接合させる段階と、からなる。【選択図】 図8
請求項（抜粋）：
シャドウマスクをマスクフレーム上に付着させる段階と、 付着した前記シャドウマスクにパターンを形成する段階と、からなることを特徴とするシャドウマスクパターンの形成方法。
IPC (2件)：
C23C 14/04 ,  C23C 14/24
FI (2件)：
C23C14/04 A ,  C23C14/24 G
Fターム (4件)：
4K029CA01 ,  4K029HA01 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (4件)
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