特許
J-GLOBAL ID：200903066742570602

プラズマ処理装置

発明者：
森 康成

森 康成 について

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橘 弘幸

橘 弘幸 について

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小西 益生

小西 益生 について

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三隅 成人

三隅 成人 について


出願人/特許権者：
三井造船株式会社

三井造船株式会社 について


代理人 (2件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-098109
公開番号（公開出願番号）：特開2005-285564
出願日： 2004年03月30日
公開日（公表日）： 2005年10月13日
要約：
【課題】基板にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、大面積の基板にプラズマ処理を行う場合でも、プラズマを安定して生成し、均一なプラズマ処理を実現する。 【解決手段】原料ガスを導入してプラズマを生成するチャンバ14の外側に、電磁波を放射する導体線が略同一長さで同一形状に巻き廻されたコイルアンテナ20が、チャンバ14の外側の異なる領域にアレイ状に複数個配置されている。これらの複数のコイルアンテナ20に同位相の高周波電力を給電する。コイルアンテナ20の導体線の長さは、高周波電力が信号として伝搬するときの伝搬波長の7分の1以下である。また、複数のコイルアンテナ20は、チャンバ14に隣接して設けられたアンテナ収容室16に配置され、複数のコイルアンテナ20は、導電性板材22によって互いに隔てられている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
プラズマを用いて基板にプラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、 原料ガスを導入してプラズマを生成するチャンバと、 前記チャンバの外側に設けられ、高周波電力を与えることにより前記チャンバに導入した原料ガスからプラズマを生成する電磁波を放射する、導体線が巻き廻されたアンテナであって、この導体線が同一形状に巻き廻されて、前記チャンバの外側の異なる領域に平面状に複数配置されたコイルアンテナと、 前記複数のコイルアンテナに同位相の高周波電力を給電する1つの高周波電源と、を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H05H1/46 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065
FI (4件)：
H05H1/46 L ,  H05H1/46 R ,  H01L21/205 ,  H01L21/302 101C
Fターム (11件)：
5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB18 ,  5F004BB32 ,  5F004BD04 ,  5F004BD05 ,  5F045AA08 ,  5F045BB01 ,  5F045DP04 ,  5F045DQ10 ,  5F045EH02
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (8件)
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