レチクルポッド

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人岡田国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-533516
公開番号（公開出願番号）：特表2009-510525
出願日： 2006年09月27日
公開日（公表日）： 2009年03月12日
要約：

ウエハー或いはレチクルと協働して拡散バリアを与える最小の接触を含む支持構造および環境制御手段を与える容器は、ウエハー或いはレチクルの面上に置かれる微粒子を軽減する。容器は、突起物を伴う平坦で研磨された表面を有するベースを含み、ウエハー或いはレチクルはこの突起物上に設置される。突起物は、ウエハー或いはレチクルと最小の接触を与えるとともにウエハー或いはレチクルをベースに浮かせる球としての配置を有し、それらの間にギャップを与える。このギャップは、ウエハー或いはレチクルをベースの平坦で研磨された表面から分離するとともに微粒子のギャップへの移動を防止し、それによってウエハー或いはレチクルの高感度面の汚染を防止する。拡散フィルタは、ろ材なしで圧力均一化を与える。トップカバー上の移動可能なレチクルのピンはレチクルを規定する。二重ポッドの実施態様によってさらなる分離および保護が得られる。

請求項（抜粋）：

レチクルを保持するための容器であって、前記レチクルは、周辺と上面と底面と側面と四つの周辺の角と上端と下端とを有し、前記容器は、周辺と、上方へ延びる複数の接触要素を備えた上方で向かい合った上部水平面とを有するベースを有しており、前記接触要素はレチクルを底面で係合するための丸い上面を有し、前記ベースプレートは前記レチクルの周辺を規定するために位置合わせされる複数のポストをさらに有し、前記接触要素の上面および前記複数のポストはレチクル設置位置を規定し、前記上方で向かい合った水平面は前記ベースの周辺で或いはそれに隣接して前記ベースの周りに延びる密閉面をさらに有しており、前記ベースプレート周辺に沿って前記ベースプレート上面に係合するためのカバーを有し、それによって前記レチクルを保持するための内部を規定しており、前記カバーは、前記それぞれの面が接触するときにそれらの間で密閉を生み出すために、前記上方で向かい合ったベースの上部水平面の前記密閉面と協働するための下方で向かい合った水平面の密閉面を有している、容器。

IPC (4件)：

G03F 1/14 , B65D 25/10 , B65D 81/20 , B65D 85/86

FI (4件)：

G03F1/14 M , B65D25/10 , B65D81/20 C , B65D85/38 K

Fターム (43件)：

2H095BA12 , 2H095BE12 , 3E062AB10 , 3E062AC02 , 3E062AC03 , 3E062FA02 , 3E062FA03 , 3E062FB01 , 3E062FB02 , 3E062FC07 , 3E067AA12 , 3E067AB94 , 3E067AC01 , 3E067BA02A , 3E067BB11A , 3E067BB14A , 3E067BC04A , 3E067DA08 , 3E067EA23 , 3E067EA32 , 3E067EB17 , 3E067EB27 , 3E067EC12 , 3E067ED04 , 3E067FA01 , 3E067FC01 , 3E067GA15 , 3E067GB05 , 3E067GD04 , 3E096AA01 , 3E096BA20 , 3E096BB05 , 3E096CA02 , 3E096CB03 , 3E096DA17 , 3E096DA23 , 3E096DA30 , 3E096DB01 , 3E096FA03 , 3E096FA07 , 3E096FA09 , 3E096GA13 , 3E096GA20

引用特許：

審査官引用 (3件)

基板の保管容器およびその保管容器を備えるX線露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-228616 出願人：キヤノン株式会社
レチクルを保護する2部分カバーを用いるシステムおよび方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-046630 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
板状物収納容器およびその蓋開口装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-160049 出願人：キヤノン株式会社

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