特許
J-GLOBAL ID:200903066980260190
X線を発生するためのシステム及び方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
松本 研一
, 小倉 博
, 伊藤 信和
, 黒川 俊久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-090337
公開番号(公開出願番号):特開2005-285764
出願日: 2005年03月28日
公開日(公表日): 2005年10月13日
要約:
【課題】 逆コンプトン散乱のプロセスを介してX線を発生するシステムを提供する。【解決手段】 本システム(10)は、レーザ空洞(20)内で第1の方向(24)に高エネルギの光パルス(16)を方向付けるように構成されている高繰返し速度のレーザ(12)と、レーザ空洞(20)内で第1の方向とは反対の第2の方向(26)に電子ビーム(18)を方向付けるように構成されているパルス状電子ビーム(18)の源(14)とを含んでいる。電子ビーム(18)はレーザ空洞(20)内で光パルス(16)中の光子と相互作用して、第2の方向(26)にX線(22)を生成する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
X線(22)を発生するためのシステム(10)であって、
レーザ空洞(20)内で第1の方向(24)に高エネルギの光パルス(16)を方向付けるように構成されている高繰返し速度のレーザ(12)と、
前記レーザ空洞(20)内で前記第1の方向(24)とは反対の第2の方向(26)に電子ビーム(18)を方向付けるように構成されているパルス状電子ビーム(18)の源(14)とを含んでおり、
前記電子ビーム(18)が前記レーザ空洞(20)内で前記光パルス(16)中の光子と衝突して、前記第2の方向(26)にX線(22)を生成すること、
を特徴とするシステム(10)。
IPC (3件):
H05G2/00
, H01S3/00
, H05H13/04
FI (3件):
H05G1/00 L
, H01S3/00 Z
, H05H13/04 Z
Fターム (20件):
2G085AA13
, 2G085BA01
, 2G085BE10
, 2G085DA03
, 2G085EA06
, 2G085EA08
, 4C092AA03
, 4C092AB27
, 5F172AE03
, 5F172AF02
, 5F172AF06
, 5F172CC04
, 5F172CC07
, 5F172DD04
, 5F172NN14
, 5F172NQ24
, 5F172NQ44
, 5F172NQ50
, 5F172NQ62
, 5F172ZZ14
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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フォトン発生器
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-117837
出願人:ブルックヘヴンサイエンスアソシエイツ
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X線発生装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-092472
出願人:石川島播磨重工業株式会社
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短波長光発生装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-073649
出願人:ソニー株式会社
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