平面導波路型回折格子素子の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：長谷川芳樹 , 塩田辰也 , 寺崎史朗 , 柴田昌聰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-180290
公開番号（公開出願番号）：特開2004-021220
出願日： 2002年06月20日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：

【課題】光導波路のコア内に良好な屈折率変調パターンを形成することが可能な平面導波路型回折格子素子の製造方法を提供する。【解決手段】Si基板10上に、アンダークラッド層21、光導波層15をパターニングしたコア層20、及びコア層20等を覆うオーバークラッド層22を形成した平面導波路型光回路を、回折格子を形成する対象となる光回路として準備する(図1(a)〜(c))。そして、この平面導波路型光回路に対して、位相格子マスク30を介して紫外レーザ光50を照射して、屈折率変調パターンによる回折格子25をコア層20内に形成する(図1(d))。このとき、紫外光の基板10による反射光が、コア層20での格子形成領域の外側を通過するように設定された照射条件によって、光回路に対する紫外光の照射を行う。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板、前記基板の表面上に所定の導波路パターンによって形成されたコア層、及び前記基板と前記コア層とを覆うように形成されたクラッド層を有する平面導波路型光回路を準備する光回路準備工程と、前記平面導波路型光回路に対して表面側から紫外光を照射し、所定の格子形成領域内の前記コア層に所定の屈折率変調パターンによって回折格子を形成して、平面導波路型回折格子素子を作成する格子形成工程とを備え、前記格子形成工程において、前記紫外光の前記基板による反射光が前記格子形成領域外を通過するように設定された条件で、前記平面導波路型光回路に対して前記紫外光を照射することを特徴とする平面導波路型回折格子素子の製造方法。

IPC (2件)：

G02B6/122 , G02B5/18

FI (2件)：

G02B6/12 A , G02B5/18

Fターム (8件)：

2H047KA03 , 2H047LA01 , 2H047PA05 , 2H047PA24 , 2H047QA04 , 2H049AA33 , 2H049AA44 , 2H049AA62

引用特許：

審査官引用 (4件)

光導波路及び光導波路デバイス
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-066281 出願人：三菱電機株式会社
光導波路グレーティングおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-099412 出願人：株式会社フジクラ
特許第3019809号

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