特許
J-GLOBAL ID：200903067309825686

化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物

発明者：
上谷 保則

上谷 保則 について

, 
武元 一樹

武元 一樹 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-208864
公開番号（公開出願番号）：特開平11-052575
出願日： 1997年08月04日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：
【要約】【課題】 感度、解像度、耐熱性、残膜率、塗布性などの諸性能に優れ、特にプロファイルに優れた、化学増幅型のポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 アルカリに対して不溶性又は難溶性の状態から酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)及び、ヒンダードピペリジン骨格、例えば次式(I)(Rは、水素、無置換の又は置換されたアルキル、又はアルカノイルを表す)の骨格を有するヒンダードアミン化合物(C)を含有してなるポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
アルカリに対して不溶性又は難溶性の状態から、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)及び、ヒンダードピペリジン骨格を有するヒンダードアミン化合物(C)を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
審査官引用 (6件)
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