特許

J-GLOBAL ID：200903067320900878

検査データ処理方法および検査データ処理装置

発明者： 前田 俊二 ,  吉武 康裕 ,  岡 健次
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-115296
公開番号（公開出願番号）：特開2000-306964
出願日： 1999年04月22日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：

【要約】【課題】 検査装置の検出した検出欠陥全数の欠陥の致命性の判定を、自動的に行うこと。【解決手段】 検査装置が検出した欠陥の存在領域を判定し、領域に対応してその致命性を判定する。そして、致命性の高い順に欠陥を選択し、レビューする。

請求項（抜粋）：

回路パターンをもつ被検査対象物面における領域座標データと、前記被検査対象物面の各領域毎に応じて予め定められた致命性判定データと、検出欠陥の座標データおよび特徴量データとを取得するステップと、欠陥の存在領域に対応する前記致命性判定データと欠陥の前記特徴量データとから、欠陥の致命性を判定するステップと、各欠陥の致命性の程度を表す情報を検査データベースに書き込むステップとを、有することを特徴とする検査データ処理方法。

IPC (3件)：

H01L 21/66 ,  G01N 21/88 ,  G01R 31/02

FI (4件)：

H01L 21/66 J ,  H01L 21/66 Z ,  G01R 31/02 ,  G01N 21/88 645 A

Fターム (34件)：

2G014AA02 ,  2G014AA03 ,  2G014AA25 ,  2G014AB59 ,  2G014AC09 ,  2G014AC11 ,  2G014AC15 ,  2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AA73 ,  2G051AB02 ,  2G051EA14 ,  2G051EA20 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051EC01 ,  2G051ED07 ,  2G051FA10 ,  4M106AA01 ,  4M106CA38 ,  4M106CA39 ,  4M106CA40 ,  4M106DB01 ,  4M106DB04 ,  4M106DH07 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ23 ,  4M106DJ26 ,  4M106DJ27 ,  4M106DJ28 ,  4M106DJ38

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-015002   出願人：株式会社日立製作所
• 半導体基板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-198219   出願人：株式会社日立製作所
• メモリ判定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-083110   出願人：株式会社日立製作所, 日立超エル・エス・アイ・エンジニアリング株式会社