光源装置及びそれを用いた露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宇都宮正明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-183025
公開番号（公開出願番号）：特開2003-008124
出願日： 2001年06月18日
公開日（公表日）： 2003年01月10日
要約：

【要約】【課題】高能率であり、かつ、デブリの発生を抑制することができる光源装置を提供する。【解決手段】ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する光源装置であって、ターゲットとして、レーザビームが照射される時点において、又はレーザビームが照射された直後においてガス状態である物質を供給するターゲット供給部113、119と、レーザ媒質として二酸化炭素ガスを含む混合ガスを使用し、波長10μm帯のレーザ光を発生させ、ターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを発生させるレーザ部111、112と、プラズマから放出される極端紫外光を集光して出射する集光光学系115とを具備する。

請求項（抜粋）：

ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する光源装置であって、前記ターゲットとして、レーザビームが照射される時点において、又はレーザビームが照射された直後においてガス状態となる物質を供給するターゲット供給部と、レーザ媒質として二酸化炭素ガスを含む混合ガスを使用し、波長10μm帯のレーザ光を発生させ、前記ターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを発生させるレーザ部と、前記プラズマから放出される極端紫外光を集光して出射する集光光学系と、を具備する光源装置。

IPC (3件)：

H01S 4/00 , G03F 7/20 505 , H01L 21/027

FI (3件)：

H01S 4/00 , G03F 7/20 505 , H01L 21/30 531 S

Fターム (11件)：

2H097CA17 , 2H097GB00 , 2H097LA10 , 5F046GA03 , 5F046GA06 , 5F046GB01 , 5F046GC03 , 5F072KK05 , 5F072PP10 , 5F072RR05 , 5F072YY09

引用特許：

審査官引用 (6件)

レーザプラズマX線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-024731 出願人：株式会社日立製作所
レ-ザ-プラズマX線源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-376352 出願人：工業技術院長, 村井健介
X線発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-190941 出願人：株式会社トヨタマックス, トヨタ自動車株式会社, 株式会社豊田中央研究所

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