ウェーハ上の、複数の面から構成されるレイアウトの照射方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：加藤朝道 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-245336
公開番号（公開出願番号）：特開2002-141279
出願日： 2001年08月13日
公開日（公表日）： 2002年05月17日
要約：

【要約】【課題】ウェーハの位置合わせを単純化しかつそれにより単位時間あたりのウェーハ照射に関するより大きい処理量を達成できる照射方法。【解決手段】ウェーハ上の、複数の面(層)から構成されるレイアウトの照射方法であって、少なくとも1つの面がフォトリソグラフィにより、それに続く少なくとも1つの他の面が電子ビームにより照射され、かつ電子ビーム照射装置に対し位置を合わせるために、該ウェーハが予めフォトリソグラフィで照射される面に関し規定さている形式の照射方法は、予めフォトリソグラフィで照射されている前記面のパターン特徴に基づき、電子ビーム照射開始前に、前記ウェーハの位置合わせ(グローバルアライメント)が前記電子ビーム照射装置に対して行われることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

ウェーハ上の、複数の面(層)から構成されるレイアウトの照射方法であって、少なくとも1つの面がフォトリソグラフィにより、それに続く少なくとも1つの他の面が電子ビームにより照射され、かつ電子ビーム照射装置に対し位置を合わせるために、該ウェーハが予めフォトリソグラフィで照射された面に関し規定される方法において、予めフォトリソグラフィで照射された前記面のパターン特徴に基づき、電子ビーム照射開始前に、前記ウェーハの位置合わせ(グローバルアライメント)が前記電子ビーム照射装置に対して行われることを特徴とする方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504

FI (3件)：

G03F 7/20 504 , H01L 21/30 502 A , H01L 21/30 520 A

Fターム (6件)：

2H097CA16 , 2H097GB04 , 2H097LA10 , 5F046AA09 , 5F046FC05 , 5F046FC07

引用特許：

審査官引用 (5件)

ミックス・アンド・マッチ描画方法、電子線描画装置、レチクル及び半導体ウエハ
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-296462 出願人：株式会社日立製作所
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-106217 出願人：株式会社ニコン
特開昭63-051635

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