特許
J-GLOBAL ID：200903067506515184
レーザ走査装置および熱処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
布施 行夫
, 井上 一
, 大渕 美千栄
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-551743
公開番号（公開出願番号）：特表2006-505953
出願日： 2003年11月03日
公開日（公表日）： 2006年02月16日
要約：
走査されたレーザ放射線を用いて基板を熱処理する装置および方法が開示されている。装置は、連続放射線源と、基板上に像を形成する光学系とを含む。前記処理領域の各点が、前記領域を熱処理するのに十分な放射線パルスを受けるように、前記基板の表面に関して前記像が走査される。
請求項（抜粋）：
基板の領域を熱処理する装置であって、
連続的な第1の放射ビームを提供可能な連続放射線源と、
前記第1の放射ビームを受けて、前記基板に像を形成する第2の放射線ビームを形成するように構成された光学系と、
前記基板を支持するように構成されたステージと、
を軸に沿って含み、
前記第1の放射ビームは、前記基板の領域を加熱可能な第1の強度プロファイルおよび波長を有し、
前記光学系および前記ステージのうち少なくとも1つは、走査方向において前記基板に関して前記像を走査して、放射線パルスを用いて、前記領域の熱処理が十分である温度へと前記領域を加熱するように構成される、装置。
IPC (1件)：
FI (3件)：
H01L21/268 J
, H01L21/268 G
, H01L21/268 T
