特許

J-GLOBAL ID：200903067576678846

現像処理方法および現像処理装置

発明者： 坂本 和生 ,  西屋 憲
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-167898
公開番号（公開出願番号）：特開2001-057334
出願日： 2000年06月05日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
要約：

【要約】【課題】 現像処理のばらつきが小さく、線幅の均一性の高い現像処理方法および現像処理装置を提供すること。【解決手段】 現像液供給ノズル86から現像液Lを帯状に吐出させながら、現像液供給ノズル86が基板W上をスキャンさせることにより、露光後の基板Wに現像液を塗布して現像処理を行う際に、現像液供給ノズル86が基板W上を2回以上スキャンするようにして基板W上に現像液Lを塗布する。

請求項（抜粋）：

現像液供給ノズルから現像液を帯状に吐出させながら、前記現像液供給ノズルが基板上をスキャンするように前記現像液供給ノズルと基板との間に相対的移動を生じさせることにより、露光後の基板に現像液を塗布して現像処理を行う現像処理方法であって、前記現像液供給ノズルが基板上を2回以上スキャンするようにして基板上に現像液を塗布することを特徴とする現像処理方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501

FI (2件)：

H01L 21/30 569 C ,  G03F 7/30 501

Fターム (11件)：

2H096AA25 ,  2H096GA30 ,  2H096GA31 ,  5F046CD01 ,  5F046CD06 ,  5F046JA22 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA13 ,  5F046LA14 ,  5F046LA18

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-271490   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 現像装置、現像方法および基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-328631   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-136583   出願人：大日本スクリーン製造株式会社