磁気ディスク媒体保護膜の成膜方法および装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-017186
公開番号（公開出願番号）：特開2001-209929
出願日： 2000年01月26日
公開日（公表日）： 2001年08月03日
要約：

【要約】【課題】磁気ディスク媒体の保護膜として、高硬度で、従って薄膜化が十分可能な硬質炭素膜を高い生産性をもって安価に成膜することのできる方法および装置を提供する。【解決手段】磁気ディスク媒体保護膜としての硬質炭素膜を成膜するための方法および装置であって、炭素含有物質のガスおよび酸素含有物質のガスをまたは炭素と酸素とを含有する物質のガスをプラズマ化してイオン化し、生成したイオンをマスフィルタに導き、フィルタリングして炭素イオンを選択し、この炭素イオンを磁気ディスク媒体に照射する工程もしくはそのための手段を含む。

請求項（抜粋）：

磁気ディスク媒体保護膜としての硬質炭素膜を成膜するための方法であって、炭素含有物質のガスおよび酸素含有物質のガスをまたは炭素と酸素とを含有する物質のガスをプラズマ化してイオン化し、生成したイオンをマスフィルタに導き、フィルタリングして炭素イオンを選択し、この炭素イオンを磁気ディスク媒体に照射することを含む方法。

IPC (2件)：

G11B 5/84 , C23C 16/27

FI (2件)：

G11B 5/84 B , C23C 16/27

Fターム (12件)：

4K030AA09 , 4K030AA14 , 4K030BA28 , 4K030FA01 , 4K030FA07 , 4K030LA01 , 4K030LA20 , 5D112AA07 , 5D112BC05 , 5D112FA01 , 5D112FB08 , 5D112FB21

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平3-176811
炭素原子による成膜及びエッチング処理方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-257617 出願人：後藤俊夫, 日本レーザ電子株式会社
DLC膜の成膜方法及びそれにより製造された磁気記録媒体
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-076684 出願人：日本ビクター株式会社

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