特許

J-GLOBAL ID：200903067681278055

レジスト組成物

発明者： 太田 義輝 ,  中井 英之
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-348023
公開番号（公開出願番号）：特開2001-166475
出願日： 1999年12月07日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：

【要約】【課題】 感度や解像度に優れるとともに、良好なプロファイル及び高い残膜率を与えるなど、優れた特性を有するレジスト組成物を提供する。【解決手段】 下式(I)(式中、Rは置換されていてもよい炭素数6〜20の飽和炭化水素残基を表し、Aは直接結合、>C=O又は>SO2 を表し、R1 は水素、炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキシ、全炭素数2〜5のアルコキシカルボニル、全炭素数1〜5のアシル、全炭素数1〜5のアシルオキシ、ニトロ、シアノ、フッ素、塩素又は臭素を表す)で示される置換スチレン単位を有する重合体を含む樹脂成分及び酸発生剤を含有し、上記式(I)で示される置換スチレン単位が、レジスト中の全固形分に対して0.1〜10重量%の割合で存在するレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

下式(I)(式中、Rは置換されていてもよい炭素数6〜20の飽和炭化水素残基を表し、Aは直接結合、>C=O又は>SO2 を表し、R1 は水素、炭素数1〜4のアルキル、炭素数1〜4のアルコキシ、全炭素数2〜5のアルコキシカルボニル、全炭素数1〜5のアシル、全炭素数1〜5のアシルオキシ、ニトロ、シアノ、フッ素、塩素又は臭素を表す)で示される置換スチレン単位を有する重合体を含む樹脂成分及び酸発生剤を含有し、該式(I)で示される置換スチレン単位が、レジスト中の全固形分に対して0.1〜10重量%の割合で存在することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (14件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-104998   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 放射線感応性ポジ型レジスト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-038702   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-251341   出願人：信越化学工業株式会社