特許

J-GLOBAL ID：200903058793774994

放射線感応性ポジ型レジスト

発明者： クァン=ジュン・チェン ,  ロナルド・エイ・デラグァルディア ,  ウー=ソン・ファン ,  アハマド・ディー・カトナーニー ,  マハムード・エム・ホジャステ ,  クンファン・リン
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 坂口 博 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-038702
公開番号（公開出願番号）：特開平11-316460
出願日： 1999年02月17日
公開日（公表日）： 1999年11月16日
要約：

【要約】【課題】 高性能でかつ放射線感応性のポジ型レジストとその配合方法を提供する。【解決手段】 一態様においては、少なくとも2種類の混和性の、水性塩基に可溶なポリマー樹脂のブレンドを含み、一方のポリマー樹脂は高活性化エネルギーの保護機で部分的に保護され、もう一方は低活性化エネルギーの保護機で部分的に保護されたポリマー樹脂組成物が開示される。別の一態様においては、酸に不安定な保護基を少なくとも2種類含む二元ブロック・ポリマーが開示される。これらポリマー組成物または二元ブロック・ポリマーと、酸発生剤と、溶媒とを含む化学増幅レジスト系は、高い解像力とすぐれた環境安定性を示す。

請求項（抜粋）：

化学的に増幅されたレジスト系において、(a)少なくとも2種類の混和性の、水性塩基に可溶なポリマー樹脂のブレンドを含み、各水性塩基に可溶なポリマー樹脂が極性の官能基を有し、前記水性塩基に可溶なポリマー樹脂の1つが高活性化エネルギーの保護基で部分的に保護された極性官能基を有し、もう1つの水性塩基に可溶なポリマー樹脂が低活性化エネルギーの保護基で部分的に保護された極性官能基を有する、ポリマー樹脂組成物と、(b)酸発生剤と、(c)前記ポリマー樹脂組成物用の溶媒とを含むレジスト系。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 503 Z ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (5件)

• ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-060955   出願人：日本電信電話株式会社
• レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-115306   出願人：信越化学工業株式会社
• 部分的に保護されたフェノール樹脂の製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-330238   出願人：オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
• 放射線感受性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-192546   出願人：オリン・マイクロエレクトロニツク・ケミカルズ・インコーポレイテツド
• レジスト組成物、レジストパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-288524   出願人：富士通株式会社