デオキシリボ核酸を安定に含むゲル組成物の製造方法及び該方法により得られたゲル組成物

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：須田正義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-171015
公開番号（公開出願番号）：特開2008-001763
出願日： 2006年06月21日
公開日（公表日）： 2008年01月10日
要約：

【課題】紫外線よりもより強度な放射線を用いることによって、DNAを安定に固定化した環境汚染物質の吸着担体を大量に生産することができる。【解決手段】放射線照射によって架橋する性質を有する架橋型高分子をDNAと同時に又は別個に水又は緩衝液に添加混合して溶解することにより、架橋型高分子及びDNAの双方を含む混合高分子溶解液を調製する。この混合高分子溶解液に対して放射線を照射することにより、架橋型高分子からなる支持体にDNAが固定化されたゲル組成物を得る。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

放射線照射によって架橋する性質を有する架橋型高分子とデオキシリボ核酸の双方を水又は緩衝液に添加混合して溶解することにより、架橋型高分子及びデオキシリボ核酸の双方を含む混合高分子溶解液を調製する工程と、前記混合高分子溶解液に対して放射線を照射することにより、デオキシリボ核酸を安定に含むゲル組成物を得る工程とを含むことを特徴とするゲル組成物の製造方法。

IPC (4件)：

C08L 101/00 , B01J 20/24 , C08L 89/00 , C08J 3/28

FI (4件)：

C08L101/00 , B01J20/24 C , C08L89/00 , C08J3/28

Fターム (30件)：

4F070AA02 , 4F070AA03 , 4F070AA62 , 4F070CB02 , 4F070HA03 , 4F070HA04 , 4F070HB03 , 4F070HB14 , 4G066AB26A , 4G066AB27A , 4G066AC01A , 4G066AC02A , 4G066AC03A , 4G066AC06A , 4G066BA28 , 4G066CA21 , 4G066DA08 , 4G066FA03 , 4G066FA07 , 4G066FA31 , 4J002AB011 , 4J002AB031 , 4J002AB041 , 4J002AB051 , 4J002AD001 , 4J002AD002 , 4J002AD011 , 4J002AD021 , 4J002AD031 , 4J002HA04

引用特許：

出願人引用 (2件)

紫外線照射による水不溶性DNA架橋体の製造方法と該架橋体の環境浄化材料としての利用
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-255733 出願人：日生バイオ株式会社
国際公開第2006/025244号パンフレット

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