特許
J-GLOBAL ID:200903067785505533
成膜装置、成膜方法、プリコート層及びその形成方法
発明者:
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,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
浅井 章弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-212664
公開番号(公開出願番号):特開2007-201406
出願日: 2006年08月03日
公開日(公表日): 2007年08月09日
要約:
【課題】シャワーヘッド部の表面に不要な付着膜が堆積しても、その輻射率の変動を抑えて被処理体毎の温度変化を抑制することが可能な成膜装置を提供する。【解決手段】排気可能になされた処理容器4と、前記処理容器内に設けられて被処理体Wを載置するための載置台24と、前記被処理体を加熱するための加熱手段30と、前記載置台と対向するように前記処理容器の天井部に設けられて成膜用の原料ガスを供給するシャワーヘッド部6と、を有して前記被処理体の表面に所定の薄膜を堆積する成膜装置において、前記シャワーヘッド部の表面を、表面処理により輻射率が0.5以上になるように設定する。これにより、シャワーヘッド部の表面に不要な付着膜が堆積しても、その輻射率の変動を抑えるようにする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
排気可能になされた処理容器と、
前記処理容器内に設けられて被処理体を載置するための載置台と、
前記被処理体を加熱するための加熱手段と、
前記載置台と対向するように前記処理容器の天井部に設けられて成膜用の原料ガスを供給するシャワーヘッド部と、を有して前記被処理体の表面に所定の薄膜を堆積する成膜装置において、
前記シャワーヘッド部の表面を、表面処理により輻射率が0.5以上になるように設定するように構成したことを特徴とする成膜装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (34件):
4K030BA10
, 4K030BA17
, 4K030BA18
, 4K030BA20
, 4K030BA22
, 4K030BA29
, 4K030BA36
, 4K030BA37
, 4K030BA38
, 4K030BA40
, 4K030BA48
, 4K030BB13
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030DA06
, 4K030EA04
, 4K030FA10
, 4K030KA24
, 4K030KA47
, 5F045AA03
, 5F045AA08
, 5F045AB02
, 5F045AB32
, 5F045AB40
, 5F045AC01
, 5F045AC07
, 5F045AC15
, 5F045AC16
, 5F045AF01
, 5F045BB01
, 5F045DP03
, 5F045DQ10
, 5F045EF05
, 5F045EF11
引用特許:
出願人引用 (9件)
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特開平4-191379号公報
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成膜処理装置及び成膜処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-079954
出願人:東京エレクトロン株式会社, テル・エンジニアリング株式会社
-
化学気相成長装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-295167
出願人:三菱電機株式会社
-
成膜方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-026492
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
特開平2-137718
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担子菌類の人工栽培用培地
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-202929
出願人:鐘紡株式会社
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熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-059148
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
美肌用具及び遠赤外線放射体
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-343781
出願人:学校法人早稲田大学
-
気相成長装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-005891
出願人:株式会社東芝
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審査官引用 (8件)
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化学気相成長装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-295167
出願人:三菱電機株式会社
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成膜方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-026492
出願人:東京エレクトロン株式会社
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特開平2-137718
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担子菌類の人工栽培用培地
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-202929
出願人:鐘紡株式会社
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熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-059148
出願人:東京エレクトロン株式会社
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美肌用具及び遠赤外線放射体
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-343781
出願人:学校法人早稲田大学
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成膜処理装置及び成膜処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-079954
出願人:東京エレクトロン株式会社, テル・エンジニアリング株式会社
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気相成長装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-005891
出願人:株式会社東芝
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