特許

J-GLOBAL ID：200903067856297171

フォトレジスト用樹脂の製造法及びフォトレジスト用樹脂組成物の製造法

発明者： 栗原 一 ,  岸村 昌明
出願人/特許権者： ダイセル化学工業株式会社
代理人 (1件)： 後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-292059
公開番号（公開出願番号）：特開2005-060511
出願日： 2003年08月12日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
要約：

【課題】 レジスト用溶剤に極めて溶解しやすいフォトレジスト用樹脂を得る。【解決手段】 酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体aと、極性基を有する脂環式骨格を含む単量体bとを少なくとも含む単量体混合物を、減圧且つ還流条件下で、滴下重合法により重合させて、単量体aに対応する繰り返し単位及び単量体bに対応する繰り返し単位を少なくとも含有するフォトレジスト用樹脂を得る。重合温度は、通常50〜150°Cであり、滴下時の圧力は、好ましくは10〜600mmHg(1.33〜79.8kPa)程度である。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体aと、極性基を有する脂環式骨格を含む単量体bとを少なくとも含む単量体混合物を、減圧且つ還流条件下で、滴下重合法により重合させて、単量体aに対応する繰り返し単位及び単量体bに対応する繰り返し単位を少なくとも含有するフォトレジスト用樹脂を得るフォトレジスト用樹脂の製造法。

IPC (2件)：

C08F220/18 ,  G03F7/039

FI (2件)：

C08F220/18 ,  G03F7/039 601

Fターム (27件)：

2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AD03 ,  2H025BJ01 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA20P ,  4J100BA20Q ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100FA28 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-188853   出願人：日本電気株式会社
• 写真焼付装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-228092   出願人：株式会社コパル

審査官引用 (2件)

• フォトレジスト用高分子化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-020618   出願人：ダイセル化学工業株式会社
• 重合方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-229742   出願人：株式会社日本触媒