特許
J-GLOBAL ID：200903067882682750
フォトマスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-266091
公開番号（公開出願番号）：特開2008-116933
出願日： 2007年10月12日
公開日（公表日）： 2008年05月22日
要約：
【課題】透光性基板上に、半透光性膜と、遮光性膜とが順次形成されたマスクブランクから、前記遮光性膜及び前記半透光性膜をパターニングして、フォトマスクを製造するフォトマスクの製造方法において、前記半透光性膜のウエットエッチングに伴って発生するガスによる前記半透光性膜及び/又は前記遮光性膜のパターン欠陥を防止できる、フォトマスクの製造方法を提供する。【解決手段】透光性基板上に、露光光に対する透過量を調整する機能を有し、金属及び珪素を含む材料からなる半透光性膜と、露光光を遮光する遮光性膜とが順次形成されたマスクブランクから、前記遮光性膜及び前記半透光性膜をパターニングして、フォトマスクを製造するフォトマスクの製造方法であって、 前記半透光性膜のパターニングは、弗化水素酸、珪弗化水素酸、弗化水素アンモニウムから選ばれる少なくとも一つの弗素化合物と、過酸化水素、硝酸、硫酸から選ばれる少なくとも一つの酸化剤とを含むエッチング液を用いたウエットエッチングによって行われ、 前記エッチング液は、該エッチング液中の前記弗素化合物と前記酸化剤のモル比を、ウエットエッチングに伴って発生するガスによるパターン欠陥を防止するモル比に設定したエッチング液とすることを特徴とする。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
透光性基板上に、露光光に対する透過量を調整する機能を有し、金属及び珪素を含む材
料からなる半透光性膜と、露光光を遮光する遮光性膜とが順次形成されたマスクブランク
から、前記遮光性膜及び前記半透光性膜をパターニングして、フォトマスクを製造するフ
ォトマスクの製造方法であって、
前記半透光性膜のパターニングは、弗化水素酸、珪弗化水素酸、弗化水素アンモニウム
から選ばれる少なくとも一つの弗素化合物と、過酸化水素、硝酸、硫酸から選ばれる少な
くとも一つの酸化剤とを含むエッチング液を用いたウエットエッチングによって行われ、
前記エッチング液は、該エッチング液中の前記弗素化合物と前記酸化剤のモル比を、ウ
エットエッチングに伴って発生するガスによるパターン欠陥を防止するモル比に設定した
エッチング液とすることを特徴とするフォトマスクの製造方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, H01L 21/027
, C23F 1/30
G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
, C23F1/30
2H095BB05
, 2H095BB15
, 2H095BC05
, 4K057WA02
, 4K057WB06
, 4K057WB08
, 4K057WB11
, 4K057WE02
, 4K057WE03
, 4K057WE07
, 4K057WE25
, 4K057WF10
, 4K057WL10
, 4K057WN04
