特許
J-GLOBAL ID：200903068078652488

二酸化チタンを基礎とするスパッタターゲット

発明者：
マルクス シュルタイス

マルクス シュルタイス について

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クリストフ ジモンス

クリストフ ジモンス について

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マーティン ヴァイゲルト

マーティン ヴァイゲルト について


出願人/特許権者：
ヴエー ツエー ヘレーウス ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト

ヴエー ツエー ヘレーウス ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト について


代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-236064
公開番号（公開出願番号）：特開2003-073820
出願日： 2002年08月13日
公開日（公表日）： 2003年03月12日
要約：
【要約】【課題】 二酸化チタンからなるスパッタリングターゲットを、直流電圧スパッタリングに適している、即ち比電気抵抗が5Ωcm未満である(が、しかし、好ましくは1Ωcm未満である)ように製造し、その際スパッタリングターゲットは、特に安価である、簡単で処理技術的に容易に操作することができる方法によって、大きな断片数で製造されることができなければならない。【解決手段】 5Ωcm未満の比電気抵抗を有する二酸化チタン(TiO2)からなる導電性スパッタターゲットを製造する方法の場合に、二酸化チタンからなる出発物質をドーピング剤またはドーピング剤混合物と混合し、その後に冷間圧縮し、引続き焼結させる。
請求項（抜粋）：
5Ωcm未満の比電気抵抗を有する二酸化チタン(TiO2)からなる導電性スパッタターゲットにおいて、TiO2からなるターゲット物質に酸化インジウム(In2O3)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化ビスマス(Bi2O3)、酸化アルミニウム(Al2O3)、酸化ガリウム(Ga2O3)、酸化アンチモン(Sb2O3)または酸化ジルコニウム(ZrO2)の群からの少なくとも1つのドーピング剤またはドーピング剤混合物が5モル%未満の割合で混合されていることを特徴とする、二酸化チタン(TiO2)からなる導電性スパッタターゲット。
IPC (4件)：
C23C 14/34 ,  C04B 35/46 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/02 301
FI (4件)：
C23C 14/34 A ,  C04B 35/46 Z ,  B01J 35/02 J ,  B01J 37/02 301 P
Fターム (38件)：
4G031AA11 ,  4G031AA12 ,  4G031AA26 ,  4G031AA27 ,  4G031AA29 ,  4G031AA34 ,  4G031AA35 ,  4G031BA02 ,  4G031BA27 ,  4G031GA06 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01A ,  4G069BA01B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA05A ,  4G069BA05B ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BC17A ,  4G069BC17B ,  4G069BC18A ,  4G069BC18B ,  4G069BC25A ,  4G069BC25B ,  4G069BC26A ,  4G069BC26B ,  4G069BC35A ,  4G069BC35B ,  4G069DA06 ,  4G069FA01 ,  4G069FA03 ,  4G069FB02 ,  4G069FC08 ,  4K029BA48 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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