特許
J-GLOBAL ID:200903068133930441

パタ-ン欠陥修正装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 原 謙三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-008424
公開番号(公開出願番号):特開2000-208902
出願日: 1999年01月14日
公開日(公表日): 2000年07月28日
要約:
【要約】【課題】 作業者に関わりなく安定的に稼働させることができ、工程の安定化並びに省人化を図ることができ、かつ、修正品位を向上させることができるパターン欠陥修正装置を提供する。【解決手段】 修正装置1は、パターン修正機構2、画像検出機構3、駆動部6、駆動部制御部7、欠陥選別回路11、パターン比較回路12、一致指摘回路13、および修正パターン制御回路14等を備えている。パターン修正機構2は、ガラス基板のパターン欠陥を自動的に修正する。画像検出機構3は、ガラス基板のパターンを検出画像として検出する。パターン比較回路12並びに一致指摘回路13は、パターン欠陥抽出画像27aと検出画像とを比較する。駆動部制御部7は、パターン欠陥位置情報27bや、上記各回路11・13・14から入力される情報に基づいて、駆動部6の駆動を制御することによって、パターン修正機構2および画像検出機構3の動作を制御する。
請求項(抜粋):
修正対象物のパターンを検査し、パターン欠陥を抽出画像として抽出するパターン検査装置に接続され、該修正対象物の所望の部分のパターンを検出画像として検出する画像検出機構、および、該修正対象物のパターン欠陥を修正するパターン修正機構を備えたパターン欠陥修正装置において、パターン検査装置から入力される抽出画像と、画像検出機構によって検出した検出画像とを比較する比較機構を具備することを特徴とするパターン欠陥修正装置。
IPC (2件):
H05K 3/22 ,  H05K 3/00
FI (2件):
H05K 3/22 E ,  H05K 3/00 Q
Fターム (1件):
5E343ER51
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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