質量分析装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-164962
公開番号（公開出願番号）：特開2006-339087
出願日： 2005年06月06日
公開日（公表日）： 2006年12月14日
要約：

【課題】イオンの高感度分析および高いイオン選択性能が可能な質量分析装置を実現する。【解決手段】質量分析装置は、イオンを生成するイオン生成部1と、イオンを蓄積、単離、解離、排出するイオントラップ部12と、排出イオンを検出する検出部33と、イオントラップ部の動作を制御する制御部34を有し、直前の質量分析で取得した結果から各工程もしくは各工程直前での総イオン蓄積量を計算し、各工程の中の少なくとも1つの工程で、総イオン蓄積量に依存してイオントラップ部に印加する電圧条件を補正する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

イオン生成部で生成されたイオンの蓄積、単離、解離、及び排出の工程を行うイオントラップと、前記イオントラップから排出されたイオンを検出する検出器と、前記イオントラップに、高周波電圧、補助交流電圧、直流電圧のいずれか一つ以上の電圧を印加する電源部と、前記電源部の電圧値と前記イオントラップとを制御する制御部とを有する質量分析装置であって、前記制御部は、前記電圧値を、第1の質量分析によって測定された結果を基に算出された前記イオントラップの各工程又は各工程直前のイオン蓄積量に基づいて、第2の質量分析における前記イオントラップの各工程のうち少なくとも一つ以上の電圧の値を設定することを特徴とする質量分析装置。

IPC (2件)：

H01J 49/42 , H01J 49/40

FI (2件)：

H01J49/42 , H01J49/40

Fターム (9件)：

2G041CA01 , 2G041FA12 , 2G041GA03 , 2G041GA06 , 2G041GA08 , 2G041GA10 , 5C038JJ06 , 5C038JJ07 , 5C038JJ11

引用特許：

出願人引用 (7件)

米国特許2939952号
米国特許4540884号
米国特許4736101号

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審査官引用 (5件)

三次元四重極質量分析法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-125523 出願人：株式会社日立製作所
リニアイオントラップ型質量分析計における空間電荷低減方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-522975 出願人：エムディーエスインコーポレイテッドドゥーイングビジネスアズエムディーエスサイエックス
質量分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-153257 出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ

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