電子銃

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-171770
公開番号（公開出願番号）：特開2000-011932
出願日： 1998年06月18日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：

【要約】【課題】電子ビーム露光装置における電子銃において、マスクに形成された描画パターンの開口部や矩形アパーチャ等の周囲の領域が受ける損傷を最小限にとどめ、当該領域の溶融の問題を解消することを目的とする。【解決手段】カソードCと第1のグリッドG1が高電圧用絶縁碍子の高圧側に配置され、アノードAが該絶縁碍子の低圧側に配置された電子銃において、高電圧用絶縁碍子の高圧側で且つ第1のグリッドG1とアノードAの間に電子ビームEBの通過量を制限するアパーチャAPを有する第2のグリッドG2を配置し、カソードCに対し順バイアスとなる電圧を第2のグリッドG2に印加し、該第2のグリッドのアパーチャAPの位置にクロスオーバ像XOを結像させるようにする。

請求項（抜粋）：

負の高加速電圧を印加されて電子ビームを放出するカソードと、該カソードに対し逆バイアスとなる電圧を印加されて前記電子ビームのクロスオーバ像を結像させる第1のグリッドと、該第1のグリッドを通過した電子ビームを集めるアノードを具備し、前記カソード及び前記第1のグリッドを高電圧用絶縁碍子の高圧側に配置し、前記アノードを前記高電圧用絶縁碍子の低圧側に配置してなる電子銃において、前記高電圧用絶縁碍子の高圧側で且つ前記第1のグリッドと前記アノードの間に電子ビームの通過量を制限するアパーチャを有する第2のグリッドを配置し、前記カソードに対し順バイアスとなる電圧を該第2のグリッドに印加し、該第2のグリッドのアパーチャの位置に前記クロスオーバ像を結像させるようにしたことを特徴とする電子銃。

IPC (2件)：

H01J 37/06 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01J 37/06 B , H01L 21/30 541 B

Fターム (6件)：

5C030BB05 , 5C030BB17 , 5C030BC06 , 5F056CB02 , 5F056EA02 , 5F056EA04

引用特許：

審査官引用 (7件)

電子銃、電子ビーム装置及び電子ビーム照射方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-063512 出願人：富士通株式会社
特開昭57-189441
荷電ビーム描画装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-043617 出願人：株式会社東芝

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