有機ELパネル用電極の欠陥修正方法および欠陥修正装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金山聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-074474
公開番号（公開出願番号）：特開2004-281328
出願日： 2003年03月18日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：

【課題】有機ELパネル用の電極のショート欠陥部を、YAGレーザを照射して除去することにより修正する、有機EL用パネルの電極欠陥修正方法で、欠陥部の下層に、レーザ照射によるダメージを与えることなく、修正できる方法を提供する。同時に、そのような方法を実施できる装置を提供する。【解決手段】電極と同じく電極形成用膜からなる欠陥部を除去するためのYAGレーザを照射する工程途中において、深さ計測用ヘッドにより、欠陥部のYAGレーザを照射して除去した深さを計測する工程を少なくとも1回以上行うもので、計測された深さと、予め把握しておいた電極形成用膜の修正前の厚さとの関係から、その時点での修正の進行度合を把握し、該計測後のYAGレーザの照射を調整するものである。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

有機ELパネル用の電極のショート欠陥部を、YAGレーザを照射して除去することにより修正する、有機ELパネル用の電極の欠陥修正方法であって、電極と同じく電極形成用膜からなる欠陥部を除去するためのYAGレーザを照射する工程途中において、欠陥部のYAGレーザを照射して除去した深さを計測する工程を少なくとも1回以上行うもので、計測された深さと、予め把握しておいた電極形成用膜の修正前の厚さとの関係から、その時点での修正の進行度合を把握し、該計測後のYAGレーザの照射を調整するものであることを特徴とする有機ELパネル用電極の欠陥修正方法。

IPC (5件)：

H05B33/10 , G09F9/00 , G09F9/30 , H05B33/14 , H05B33/26

FI (5件)：

H05B33/10 , G09F9/00 352 , G09F9/30 365Z , H05B33/14 A , H05B33/26 Z

Fターム (22件)：

3K007AB18 , 3K007DB03 , 3K007FA00 , 5C094AA41 , 5C094AA42 , 5C094AA43 , 5C094BA01 , 5C094BA29 , 5C094CA19 , 5C094GB10 , 5C094HA05 , 5C094HA10 , 5G435AA17 , 5G435AA19 , 5G435BB05 , 5G435CC09 , 5G435EE12 , 5G435HH12 , 5G435KK05 , 5G435KK10 , 5G435LL07 , 5G435LL17

引用特許：

審査官引用 (6件)

欠陥検査修正装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-231853 出願人：エヌティエヌ株式会社
レーザ加工における加工面の反射光検出装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-148917 出願人：住友重機械工業株式会社
配線基板の加工方法および加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-333815 出願人：三菱電機株式会社

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