特許
J-GLOBAL ID：200903068408789671

アミド化合物の還元によるアミン化合物の製造方法

発明者：
永島 英夫

永島 英夫 について

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本山 幸弘

本山 幸弘 について

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三井 郁

三井 郁 について

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石田 寿樹

石田 寿樹 について


出願人/特許権者：
国立大学法人九州大学

国立大学法人九州大学 について

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信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 松井 光夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-267569
公開番号（公開出願番号）：特開2006-282651
出願日： 2005年09月14日
公開日（公表日）： 2006年10月19日
要約：
【課題】 穏和な反応条件下でアミド化合物を還元し、反応生成物から触媒および還元剤残渣を容易に除去でき、さらに、目的とするアミン化合物を収率良く得られる方法を提供する。【解決手段】 (1)アミド化合物を、遷移金属触媒の存在下で、分子中にケイ素原子に結合した水素原子を少なくとも1つ有するポリマーによって還元し、この際に酸化された該ポリマーはゲル状乃至固体状物質となる工程、次いで、(2)前記ゲル状乃至固体状物質を除去する工程、を含むことを特徴とするアミン化合物の製造方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(1)アミド化合物を、遷移金属触媒の存在下で、分子中にケイ素原子に結合した水素原子を少なくとも1つ有するポリマーによって還元し、この際に酸化された該ポリマーはゲル状乃至固体状物質となる工程、次いで、 (2)前記ゲル状乃至固体状物質を除去する工程、 を含むことを特徴とするアミン化合物の製造方法。
IPC (5件)：
C07C 209/50 ,  C07C 211/27 ,  C07C 211/16 ,  C07D 295/02 ,  B01J 31/20
FI (5件)：
C07C209/50 ,  C07C211/27 ,  C07C211/16 ,  C07D295/02 Z ,  B01J31/20 Z
Fターム (22件)：
4G169AA02 ,  4G169BA27A ,  4G169BA27B ,  4G169BC70A ,  4G169BC70B ,  4G169BE37A ,  4G169BE37B ,  4G169BE42A ,  4G169BE42B ,  4G169CB06 ,  4H006AA02 ,  4H006AC52 ,  4H006AD16 ,  4H006AD17 ,  4H006BA23 ,  4H006BA40 ,  4H006BA44 ,  4H006BA53 ,  4H006BB15 ,  4H006BD20 ,  4H039CA71 ,  4H039CB40
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (6件)
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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