特許
J-GLOBAL ID：200903068468079525

洗浄処理方法及び洗浄処理装置

発明者：
坂井 光広

坂井 光広 について

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佐田 徹也

佐田 徹也 について

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立山 清久

立山 清久 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-009011
公開番号（公開出願番号）：特開平10-270408
出願日： 1998年01月20日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：
【要約】【課題】 被処理体を洗浄した洗浄液を有効に利用したり、同洗浄液を再利用したり、容器の洗浄効率が向上する処理装置を提供する。また装置全体のランニングコストを低減化でき、塗布機構における回転カップと固定カップに付着する塗布液を除去して歩留まりが向上する洗浄装置及び洗浄方法を提供する。【解決手段】 被処理体に処理を施したときに流出または飛散する処理液を回収する容器と、前記容器内に洗浄液を供給しその内壁面を洗浄する洗浄手段と、前記洗浄手段にて前記容器の内壁面を洗浄したときに前記容器から排出された排出液を回収し前記洗浄手段に供給する循環系と、を具備する処理装置とした。
請求項（抜粋）：
被処理体に洗浄液を供給して洗浄した後、その洗浄液を回収し、回収された洗浄液中から気体を分離除去して洗浄液を貯留し、貯留された洗浄液を被洗浄体の洗浄に利用する、ことを特徴とする洗浄処理方法。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
H01L 21/304 341 S ,  H01L 21/304 341 Z ,  H01L 21/30 564 C
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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