特許
J-GLOBAL ID：200903096006729455

基板処理装置

発明者：
木瀬 一夫

木瀬 一夫 について

, 
寺内 健一

寺内 健一 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-150676
公開番号（公開出願番号）：特開平9-001035
出願日： 1995年06月16日
公開日（公表日）： 1997年01月07日
要約：
【要約】【目的】 回転塗布手段により飛散させられた塗布液を受ける飛散防止手段を洗浄するために使用される溶剤と,基板端縁の不要薄膜を洗浄除去する端縁洗浄手段に使用される溶剤との合計の消費量を減少させること。【構成】 端縁洗浄ユニットERにおいて端縁洗浄に使用され廃液タンクT1に送られた廃液(すなわち溶解物やミストを含む溶剤)は,バルブV1が開放されると,ポンプP1によって,スピンコータユニットSCの飛散防止カップ22の洗浄に用いられる溶剤を貯溜しているバッファタンクT2に送られる。バッファタンクT2に貯溜された溶剤は,窒素ガスの圧送によってスピンコータユニットSCの飛散防止カップ22の洗浄に供給される。
請求項（抜粋）：
基板を回転させてその表面に所定の処理液を塗布することにより基板の表面に薄膜を形成する回転塗布手段と,回転塗布手段による基板回転時に基板から飛散させられる処理液を受けて,処理液の外部への飛散を防止する飛散防止手段と,処理液が塗布された基板の端縁に形成された不要薄膜に所定の溶剤を供給して不要薄膜を溶解し,基板の端縁を洗浄する端縁洗浄手段と,端縁洗浄手段によって基板の端縁に供給された溶剤を回収する溶剤回収手段と,溶剤回収手段によって回収された溶剤を飛散防止手段に供給して,飛散防止手段を洗浄する洗浄手段と,を有する基板処理装置。
IPC (5件)：
B05C 11/08 ,  B08B 3/02 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341
FI (5件)：
B05C 11/08 ,  B08B 3/02 B ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/30 564 C
引用特許：
出願人引用 (5件)
  • 特開平2-101732
  • 基板端縁洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-357131   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-166232   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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審査官引用 (5件)
  • 特開平2-101732
  • 基板端縁洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-357131   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-166232   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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