特許
J-GLOBAL ID：200903068476135370

洗浄装置

発明者：
山下 幸福

山下 幸福 について


出願人/特許権者：
オルガノ株式会社

オルガノ株式会社 について


代理人 (1件)： 細井 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-335738
公開番号（公開出願番号）：特開2001-149873
出願日： 1999年11月26日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
要約：
【要約】【課題】 複数の洗浄槽を配置して被洗浄物を各洗浄槽に順次送り、気体溶解水からなる洗浄水を洗浄槽に供給して被洗浄物の洗浄を行うための洗浄装置において、常に所定の溶存気体濃度に保持された洗浄水を洗浄槽に供給できる洗浄装置を提供する。【解決手段】 洗浄槽32からの排出水を前段の洗浄槽31に導く送液ライン39を設け、該送液ライン39に不純物除去装置42を設けると共に、該不純物除去装置42により不純物除去処理がなされた排出水に気体を溶解するための気体溶解装置43を設ける。複数の洗浄槽のうち1つの洗浄槽31に、排出水を循環するための送液ライン57を設け、該送液ライン57に前記不純物除去装置42、気体溶解装置43を設ける。
請求項（抜粋）：
複数の洗浄槽を配置して被洗浄物を各洗浄槽に順次送り、気体溶解水からなる洗浄水を洗浄槽に供給して被洗浄物の洗浄を行うための洗浄装置において、洗浄槽からの排出水を前段の洗浄槽又は同一の洗浄槽に導く送液ラインに不純物除去装置を設けると共に、該不純物除去装置により不純物除去処理がなされた排出水に気体を溶解するための気体溶解装置を設けてなることを特徴とする洗浄装置。
IPC (4件)：
B08B 3/08 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 647 ,  H01L 21/304 648
FI (4件)：
B08B 3/08 A ,  H01L 21/304 642 B ,  H01L 21/304 647 Z ,  H01L 21/304 648 J
Fターム (9件)：
3B201AA03 ,  3B201AB23 ,  3B201BB04 ,  3B201BB89 ,  3B201BB93 ,  3B201BB98 ,  3B201CB15 ,  3B201CC21 ,  3B201CD22
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • 洗浄方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-307294   出願人：オリンパス光学工業株式会社
  • 半導体ウエーハの洗浄方法及び洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-041212   出願人：住友シチックス株式会社
  • 洗浄方法および洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-247286   出願人：株式会社東芝
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