特許
J-GLOBAL ID：200903068482576493
密着性に優れた溶射皮膜を形成する溶射方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
飯田 敏三
, 佐々木 渉
, 宮前 尚祐
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-235980
公開番号（公開出願番号）：特開2009-068051
出願日： 2007年09月11日
公開日（公表日）： 2009年04月02日
要約：
【課題】溶射前に基材表面を特定の処理手段を組み合わせた粗面化と清浄化により、基材と得られる溶射皮膜とが過酷な条件下であっても密着可能な密着性を有する溶射方法を提供する。【解決手段】金属基材表面をブラスト処理し、次いで該金属基材表面に法線方向から外力を作用させた状態で減圧アーククリーニング処理を行った後、溶射処理をする金属基材表面に密着性に優れた溶射皮膜を形成する溶射方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
金属基材表面をブラスト処理し、次いで該金属基材表面に法線方向から外力を作用させた状態で減圧アーククリーニング処理を行った後、溶射処理をする金属基材表面に密着性に優れた溶射皮膜を形成する溶射方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (22件)：
4D075BB04X
, 4D075BB83Y
, 4D075DB01
, 4D075EA02
, 4D075EB01
, 4D075EB05
, 4K031AA02
, 4K031AB03
, 4K031AB09
, 4K031BA01
, 4K031BA04
, 4K031BA08
, 4K031CB21
, 4K031CB22
, 4K031CB26
, 4K031CB27
, 4K031CB33
, 4K031CB36
, 4K031CB37
, 4K031CB42
, 4K031CB43
, 4K031DA04
出願人引用 (3件)
審査官引用 (6件)
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