島状突起修飾部品及びその製造方法並びにそれを用いた装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-372754
公開番号（公開出願番号）：特開2004-172607
出願日： 2003年10月31日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：

【課題】成膜装置、プラズマ処理装置では、当該装置に用いる部品表面に膜状物質が付着し、それらが剥離することによって装置内の発塵、パーティクルとなり、成膜或いはプラズマ処理する製品の汚染原因となっていた。またその様な汚染を防止するため、装置に用いる部品に膜状物質が僅かに付着する度に頻繁に交換することが必要となり、生産性の低下をもたらしていた。【解決の手段】部品の表面に数μm〜数百μmの幅並びに高さを有し、球状又は釣鐘状の島状突起で修飾したガラス修飾部品は、成膜装置、プラズマ処理装置に用いた場合、当該部品に対する膜状物質の保持性が高く、耐プラズマ性に優れるため、発塵、パーティクルの発生がなく、また当該形状の修飾部品は気孔が極めて少ないのでパーティクルやガス放出が少なく、さらに、島状突起と基材の熱膨張率の差による応力が小さく加熱しても剥離しないので真空装置に用いるのに適している。【選択図】選択図なし

請求項（抜粋）：

基材上に幅5〜300μm、高さ2〜200μmの範囲の島状突起を有し、当該島状突起の形状全体が丸みを帯びており、かつ島状突起の個数が20〜5000個/mm2である島状突起修飾部品。

IPC (2件)：

H01L21/205 , H01L21/3065

FI (2件)：

H01L21/205 , H01L21/302 101G

Fターム (25件)：

4G059AA01 , 4G059AA20 , 4G059AB09 , 4G059AB11 , 4G059AC01 , 4G059CA01 , 4G059CB04 , 4K029BD01 , 4K029DA01 , 4K029DA09 , 4K029DA10 , 4K029DA12 , 4K029DC20 , 4K030KA09 , 4K030KA12 , 4K030KA46 , 4K030KA47 , 5F004AA15 , 5F004BB29 , 5F004BD04 , 5F004BD05 , 5F045BB15 , 5F045EB03 , 5F045EB06 , 5F045EC05

引用特許：

出願人引用 (10件)

米国特許第5460689号
半導体工業用シリカガラス治具およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-296756 出願人：信越石英株式会社
特開昭60-120515号公報

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審査官引用 (8件)

遮熱皮膜で被覆された金属基材の耐酸化性を改善する方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-295359 出願人：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
薄膜形成装置用部材及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-000600 出願人：株式会社日鉱マテリアルズ
堆積膜形成装置および堆積膜形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-309435 出願人：キヤノン株式会社

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引用文献：

審査官引用 (1件)

JIS使い方シリーズ溶射技術マニュアル, 19981030, p.91-93

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