極端紫外リゾグラフィー用光源装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-178081
公開番号（公開出願番号）：特開2005-019441
出願日： 2003年06月23日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：

【課題】発光物質として錫の微粒子を用い、その密度を最適な密度とすることで高い変換効率を得る極端紫外リゾグラフィー用光源装置を提供する。【解決手段】レーザー生成プラズマからの発光を利用した極端紫外リゾグラフィー用光源装置は、発光物質の微粒子を所定の割合で混入したバインダーをプラスチックフィルムテープのベース上に塗布した発光物質テープを、レーザーを照射してプラズマを発生させるためのターゲットとして使用する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

レーザー生成プラズマからの発光を利用した極端紫外リゾグラフィー用光源装置であって、発光物質の微粒子を所定の割合で混入したバインダーをプラスチックフィルムテープのベース上に塗布した発光物質テープを、レーザー照射してプラズマを発生させるためのターゲットとして使用することを特徴とする極端紫外リゾグラフィー用光源装置。

IPC (3件)：

H01L21/027 , H05G2/00 , H05H1/24

FI (3件)：

H01L21/30 531S , H05H1/24 , H05G1/00 K

Fターム (5件)：

4C092AA06 , 4C092AA17 , 4C092AB21 , 4C092AC09 , 5F046GC03

引用特許：

審査官引用 (4件)

レーザープラズマX線源用標的
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-315446 出願人：株式会社ニコン
超紫外放射を得るための方法および超紫外放射源ならびにリソグラフィーへの応用
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-538459 出願人：コミツサリアタレネルジーアトミーク
極短波放射線を発生する方法、前記放射線によって装置を製造する方法、極短波放射線源装置およびこのような放射線源装置が装備されたリソグラフィ投影装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-549063 出願人：コーニンクレッカフィリップスエレクトロニクスエヌヴィ

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