特許
J-GLOBAL ID：200903068690100354

処理装置

発明者：
飽本 正巳

飽本 正巳 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-231898
公開番号（公開出願番号）：特開平10-074818
出願日： 1996年09月02日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：
【要約】【課題】 スループットの低下を招くことなく、かつ被処理基板に悪影響を与えることなく、しかもスペースコストの増大を招くことなく冷却待ち状態の被処理基板を保持することができる処理装置の提供。【解決手段】 クーリングユニット(COL)の冷却処理部52に対する冷却処理が集中し、冷却待ち状態のウエハWが発生した場合に、かかる冷却待ち状態のウエハWについてはクーリングユニット(COL)内に設けられた退避部58に一時的に退避するようにしている。
請求項（抜粋）：
加熱された被処理基板の冷却処理を行う冷却処理部と、前記冷却処理部の上方に位置し、次に冷却処理が行われる被処理基板を一時的に退避させる退避部と、前記冷却処理部及び前記退避部に対して前記被処理基板の搬入及び搬出を行う搬送手段とを具備することを特徴とする処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/68 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 562
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • 処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-323704   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 加熱処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-043557   出願人：東芝機械株式会社
  • 排気方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-186241   出願人：東京エレクトロン株式会社
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