特許
J-GLOBAL ID：200903068710710944

液体材料気化供給装置および液体材料気化供給方法

発明者：
千田 二郎

千田 二郎 について

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三好 一也

三好 一也 について

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石田 耕三

石田 耕三 について

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松田 耕一郎

松田 耕一郎 について

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清水 哲夫

清水 哲夫 について


出願人/特許権者：
千田 二郎

千田 二郎 について

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株式会社堀場製作所

株式会社堀場製作所 について

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株式会社エステック

株式会社エステック について


代理人 (1件)： 藤本 英夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-364707
公開番号（公開出願番号）：特開2004-197134
出願日： 2002年12月17日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：
【課題】CVDプロセスにおいて液体材料を最低限の加熱により気化供給することができ、多くの材料を速やかに気化できる液体材料気化供給装置および液体材料気化供給方法を提供する。【解決手段】反応室11内に気化した液体材料LMGを減圧下で供給することで加工対象12上に薄膜を堆積する薄膜堆積装置1に用いられ、液体材料LMに対して二相領域を形成できる添加液LAを所定割合混合することでその混合液LM+LAの沸点を引き下げる沸点調節部2Aを有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
反応室内に気化した液体材料を減圧下で供給することで加工対象上に薄膜を堆積する薄膜堆積装置に用いられ、 液体材料に対して二相領域を形成できる添加液を所定割合混合することでその沸点を引き下げる沸点調節部を有することを特徴とする液体材料気化供給装置。
IPC (4件)：
C23C16/448 ,  B01D1/00 ,  B01D3/36 ,  H01L21/205
FI (4件)：
C23C16/448 ,  B01D1/00 A ,  B01D3/36 ,  H01L21/205
Fターム (12件)：
4D076BA50 ,  4D076BB08 ,  4D076GA01 ,  4D076HA20 ,  4D076JA03 ,  4K030AA06 ,  4K030BA29 ,  4K030EA01 ,  5F045AA06 ,  5F045BB09 ,  5F045EE02 ,  5F045EE13
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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