特許
J-GLOBAL ID：200903068719076970
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
岩橋 文雄
, 坂口 智康
, 内藤 浩樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-319716
公開番号（公開出願番号）：特開2004-148282
出願日： 2002年11月01日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：
【課題】処理室内部への有機物のパーティクルの付着堆積量を低減させて、真空排気時間を遅延させることなくタクトタイムを維持することができるプラズマ処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】処理室内で発生したプラズマをワークに作用させるプラズマ処理装置において、高周波電源に接続された電極3とベース部材2との間に介在する絶縁部材12を、無機質などの熱伝導性を高める物質を樹脂に混合した材料で構成し、プラズマによって高温に加熱された電極3の熱を絶縁部材12を介してベース部材2に伝達し、プラズマ処理過程においてベース部材2の温度を上昇させる。これにより、処理室内部への有機物のパーティクルの付着堆積量を低減させて、真空排気時間を遅延させることなくタクトタイムを維持することができる。【選択図】 図9
請求項（抜粋）：
処理室内を減圧してプラズマを発生させ、このプラズマを処理室内に搬入したワークの表面に作用させて所定の処理を行うプラズマ処理と、処理室からプラズマ処理済みのワークを搬出するために前記処理室内の圧力を大気圧に戻す大気開放とを繰り返すことによってワークのプラズマ処理作業を反復して行うプラズマ処理装置であって、前記処理室が、ベース部材と、このベース部材に絶縁部材を介して装着され且つ高周波電源に接続された電極と、このベース部材に気密な状態で当接することにより前記電極のワーク載置面側を閉囲した密閉空間を形成する開閉可能な蓋部材より構成され、プラズマによって高温に加熱された前記電極の熱を前記絶縁部材を介して前記ベース部材に伝達することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
B01J19/08
, B01J3/00
, C23F4/00
, H05H1/46
B01J19/08 E
, B01J3/00 J
, C23F4/00 A
, H05H1/46 L
4G075AA30
, 4G075BA05
, 4G075BB10
, 4G075BC02
, 4G075CA25
, 4G075CA47
, 4G075CA65
, 4G075DA02
, 4G075EB01
, 4G075EC21
, 4G075FB12
, 4G075FC11
, 4G075FC15
, 4K057DA01
, 4K057DM01
, 4K057DM35
, 4K057DM40
出願人引用 (3件)
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プラズマ処理装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平7-171370
出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
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半導体プラズマ処理装置の電極カバー
公報種別：公開公報
出願番号：特願平7-085883
出願人：株式会社創造科学, 有限会社宮田技研
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表面処理装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平7-215862
出願人：松下電器産業株式会社
審査官引用 (3件)
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プラズマ処理装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平7-171370
出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
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半導体プラズマ処理装置の電極カバー
公報種別：公開公報
出願番号：特願平7-085883
出願人：株式会社創造科学, 有限会社宮田技研
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表面処理装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平7-215862
出願人：松下電器産業株式会社
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