低複屈折ポリイミド膜の製造方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中本宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-187652
公開番号（公開出願番号）：特開平9-015608
出願日： 1995年07月03日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【課題】偏波依存性の小さな低複屈折ポリイミド膜の製造方法を提供する。【解決手段】基板上に形成されるポリイミド膜において、基板としてポリイミド板を用い、該基板表面にポリアミド酸溶液又はポリイミド溶液を均一に塗布し、その後熱処理を行う低複屈折ポリイミド膜の製造方法。その一般的製法としては、ポリイミド板上にポリアミド酸溶液又はポリイミド溶液をスピンコート法、ディップ法等により、均一な厚さに塗布する。その後溶媒の揮発のため加熱する。ポリアミド酸溶液を用いる場合はイミド化に必要な加熱を更に行う。【効果】シリコン基板やアルミニウム基板上で作製したポリイミド膜に比較して複屈折は小さく、この膜を用いて光導波路を作製すれば偏波依存性の小さなポリイミド光導波路が作製できる。

請求項（抜粋）：

基板上に形成されるポリイミド膜において、基板としてポリイミド板を用い、該基板表面にポリアミド酸溶液又はポリイミド溶液を均一に塗布し、その後熱処理を行うことを特徴とする低複屈折ポリイミド膜の製造方法。

IPC (3件)：

G02F 1/1337 525 , B32B 27/34 , C08G 73/10 NTF

FI (3件)：

G02F 1/1337 525 , B32B 27/34 , C08G 73/10 NTF

引用特許：

審査官引用 (7件)

プラスチック光導波路
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-163321 出願人：日本電信電話株式会社
特開平4-239037
特開平4-235034

全件表示

前のページに戻る