特許
J-GLOBAL ID：200903068809355143

情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板の研磨加工方法

発明者：
後藤 直雪

後藤 直雪 について

, 
平本 靖男

平本 靖男 について


出願人/特許権者：
株式会社オハラ

株式会社オハラ について


代理人 (1件)： 坂本 徹 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-083139
公開番号（公開出願番号）：特開2000-273444
出願日： 1999年03月26日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：
【要約】【課題】 情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板の研磨加工方法において、研磨加工後の基板表面特性を著しく向上させる情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板の研磨加工方法を提供する。【解決手段】 情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板の研磨加工方法において、研磨液中の研磨材としてZrO2および/またはAl2O3を用い両面研磨加工を行う。
請求項（抜粋）：
情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板において、研磨加工における研磨液中の研磨材が、ZrO2および/またはAl2O3であることを特徴とする情報記憶媒体用ガラスセラミックスの研磨加工方法。
IPC (8件)：
C09K 3/14 550 ,  B24B 1/00 ,  B24B 37/00 ,  B24D 3/00 ,  C03C 19/00 ,  G11B 5/84 ,  C03C 3/087 ,  C03C 3/097
FI (8件)：
C09K 3/14 550 D ,  B24B 1/00 D ,  B24B 37/00 H ,  B24D 3/00 ,  C03C 19/00 Z ,  G11B 5/84 Z ,  C03C 3/087 ,  C03C 3/097
Fターム (84件)：
3C049AA07 ,  3C049AA09 ,  3C049AA18 ,  3C049AC04 ,  3C049CA01 ,  3C049CA06 ,  3C049CB01 ,  3C049CB03 ,  3C049CB10 ,  3C058AA07 ,  3C058AA18 ,  3C058CA06 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17 ,  3C063BB03 ,  3C063BB07 ,  3C063BB19 ,  3C063EE01 ,  3C063EE16 ,  4G059AA09 ,  4G059AC03 ,  4G062AA18 ,  4G062DA06 ,  4G062DA07 ,  4G062DB03 ,  4G062DB04 ,  4G062DC01 ,  4G062DD01 ,  4G062DD03 ,  4G062DE01 ,  4G062DE02 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EA03 ,  4G062EA04 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062EC03 ,  4G062ED01 ,  4G062ED02 ,  4G062ED04 ,  4G062EE01 ,  4G062EE03 ,  4G062EF01 ,  4G062EF03 ,  4G062EG01 ,  4G062EG03 ,  4G062FA01 ,  4G062FB01 ,  4G062FB03 ,  4G062FC01 ,  4G062FC02 ,  4G062FC03 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GA03 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ04 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM27 ,  4G062MM28 ,  4G062QQ03 ,  4G062QQ16 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112GA14
引用特許：
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (12件)
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