特許
J-GLOBAL ID：200903068815299212

洗浄方法及び洗浄装置

発明者：
青木 秀充

青木 秀充 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 開口 宗昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-134603
公開番号（公開出願番号）：特開平10-326763
出願日： 1997年05月26日
公開日（公表日）： 1998年12月08日
要約：
【要約】【課題】アルゴンガス又は炭酸ガスの洗浄流体を基板に吹き付けてて、複数のウエハの両面を同時に洗浄処理し、除去された汚染粒子の再付着を防止して基板の処理効率及び処理された基板の清浄度を高める。【解決手段】ノズル配管を共通配管から櫛状に分岐させ、各々のノズル配管に噴出ノズル穴を複数加工して配列する。ノズル配管の間に被洗浄基板をそれ自身垂直に、水平に一列に配置し、噴出ノズル穴から出た洗浄流体が各々の被洗浄基板の両面に同時に吹き出るようにする。雰囲気を真空に維持し、アルゴン微粒子を含むアルゴンガス又は二酸化炭素微粒子を含む炭酸ガスを、被洗浄基板を上下に運動させながら、被洗浄基板の両面に吹き付け、被洗浄基板の表面に付着している汚染粒子を弾き飛ばす。基板上部から、N2 キャリヤガスを下方向に流し汚染粒子を含んだ洗浄流体を排出する。洗浄流体とN2 キャリヤガスは排気手段により外部に排気され雰囲気は真空に維持される。
請求項（抜粋）：
被洗浄基板が一枚づつ配置される複数の空間の各々に両面から同時に洗浄流体が吹き出るように噴出ノズル穴を配列し、真空容器内に収納されたノズル装置に、アルゴン微粒子または炭酸ガス微粒子を含む洗浄流体を供給する工程と、真空容器から内部の流体を外部に排気し真空容器を真空に維持する工程と、前記空間に被洗浄基板を配置して固定し、被洗浄基板と噴出ノズル穴が相対的に上下運動するように、被洗浄基板又はノズル装置のいずれか一方を動かして被洗浄基板を洗浄処理し、前記洗浄流体を前記空間から排出する排出流体を被洗浄基板の上部から供給する工程とを含むことを特徴とする洗浄方法。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 7/00
FI (3件)：
H01L 21/304 341 G ,  H01L 21/304 341 N ,  B08B 7/00
引用特許：
審査官引用 (4件)
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