膜水蒸気改質器

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：細田芳徳
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-532538
公開番号（公開出願番号）：特表2008-513338
出願日： 2005年09月19日
公開日（公表日）： 2008年05月01日
要約：

水素生成反応器が開示される。水素生成反応器は、水素生成供給原料から水素を含有する反応生成物を生成するように適合された触媒床を含む反応チャンバーを有する。反応チャンバーはまた、触媒床からの反応生成物を受け入れ、反応生成物から水素含有生成物流を分離するように適合された、水素選択性水素透過性ガス分離モジュールを含む。ガス分離モジュールは、多孔質基材、多孔質基材に位置した中間多孔質層、および中間層上に重層される水素選択性膜を含む。中間多孔質層は、多孔質基材のタンマン温度よりも高いタンマン温度を有する粉体を含む。水蒸気改質方法はまた、開示された反応器を用いて開示される。

請求項（抜粋）：

a) 水素生成供給原料から水素ガスを含む反応生成物を生成するように適合された触媒床を含む反応チャンバー;および b) 触媒床からの反応生成物を受け、反応生成物を(1)水素を含む生成物流および(2)副生成物流に分離するように適合された少なくとも1つの水素選択性水素透過性ガス分離モジュールを含む反応器であって、該ガス分離モジュールは、 (i) 多孔質基材; (ii) 多孔質基材上に重層され、多孔質基材のタンマン温度より高いタンマン温度を有する粉体を含む中間多孔質層;および (iii) 中間多孔質層上に重層される水素選択性膜を含む、反応器。

IPC (7件)：

C01B 3/38 , C01B 3/56 , B01D 53/22 , B01D 69/10 , B01D 71/02 , B01D 63/06 , H01M 8/06

FI (7件)：

C01B3/38 , C01B3/56 Z , B01D53/22 , B01D69/10 , B01D71/02 500 , B01D63/06 , H01M8/06 G

Fターム (33件)：

4D006GA41 , 4D006HA21 , 4D006KA01 , 4D006KB30 , 4D006KE02Q , 4D006KE06Q , 4D006KE16Q , 4D006MA02 , 4D006MA09 , 4D006MB06 , 4D006MC02 , 4D006MC03 , 4D006MC90 , 4D006PA04 , 4D006PB18 , 4D006PB64 , 4D006PB66 , 4D006PB67 , 4D006PC69 , 4D006PC80 , 4G140EA03 , 4G140EA06 , 4G140EB16 , 4G140EB23 , 4G140EB24 , 4G140EB37 , 4G140FA01 , 4G140FB04 , 4G140FC01 , 4G140FE01 , 5H027AA02 , 5H027BA01 , 5H027BA16

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平4-227035
水素選択透過膜支持用基材および水素選択透過部材
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-021413 出願人：株式会社神戸製鋼所
水素分離膜
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-107842 出願人：三菱重工業株式会社

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引用文献：

審査官引用 (2件)

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