特許
J-GLOBAL ID：200903068987948778
固体撮像装置および固体撮像装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-011410
公開番号（公開出願番号）：特開2005-209676
出願日： 2004年01月20日
公開日（公表日）： 2005年08月04日
要約：
【課題】下地となる第1膜と光を反射するもので第1膜上に形成した第2膜との積層膜を複数層に形成することで、電荷転送に悪影響を及ぼすことなく感度向上を可能とする。【解決手段】半導体基板11に設けた受光部12と、半導体基板11に受光部12を被覆する層間絶縁膜24〜30と、受光部12上の層間絶縁膜24〜30に設けた光導波路31と、光導波路31の側壁に形成した光反射膜51とを備えた固体撮像装置1において、光反射膜51は、下地となる第1膜52と光を反射するもので第1膜52上に形成した第2膜53との積層膜54を複数層に形成したものからなる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板に設けた受光部と、
前記基板に前記受光部を被覆する絶縁膜と、
前記受光部上の前記絶縁膜に設けた光導波路と、
前記光導波路の側壁に形成した光反射膜と
を備えた固体撮像装置において、
前記光反射膜は、
下地となる第1膜と光を反射するもので前記第1膜上に形成した第2膜との積層膜を複数層に形成したものからなる
ことを特徴とする固体撮像装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L27/14 D
, H04N5/335 V
4M118AA01
, 4M118AA05
, 4M118AB01
, 4M118BA09
, 4M118CA02
, 4M118FA06
, 4M118GB03
, 4M118GC08
, 4M118GD04
, 4M118GD07
, 4M118GD11
, 5C024CX41
, 5C024CY47
, 5C024EX42
出願人引用 (3件)
審査官引用 (6件)
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