処理装置

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：井上俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-217810
公開番号（公開出願番号）：特開平8-060374
出願日： 1994年08月19日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：

【要約】【目的】プラズマエッチングやCVDを行う処理装置において処理室の搬送口を開閉するゲートバルブの交換を容易に行えるようにして装置の稼動率を向上させること。【構成】ロードロック室と処理室との間の搬送口を開閉するゲートバルブ4を、表面40が処理室内の雰囲気にさらされる表層部分41と、その裏面側の基体部分42とにより構成し、表層部分41を基体部分42に対して例えばネジ43により着脱自在に取り付けて表層部分41のみを交換できるように構成すると共に、表層部分41の材質として耐蝕性が大きくてプラズマの衝撃に強い材質例えばポリベンゾイミダゾールやセラミックなどを用いる。

請求項（抜粋）：

気密な処理室内にて処理ガスまたはそのプラズマにより被処理体を処理する装置において、表面が処理室内の雰囲気にさらされる部材を、表面が処理室内の雰囲気にさらされる表層部分とその裏面側の基体部分との積層構造体により構成し、前記表層部分を基体部分に対して着脱自在に取り付けたことをことを特徴とする処理装置。

IPC (4件)：

C23C 16/50 , C23F 4/00 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭63-153271
プラズマ発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-348907 出願人：国際電気株式会社, 株式会社日立製作所
特開昭63-311726

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