特許
J-GLOBAL ID:200903069083028934

正確に調整されたレーザパルスを円形軌道及びスパイラル状軌道に移動させることによって穴を処理する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 松永 宣行 ,  小合 宗一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-524948
公開番号(公開出願番号):特表2008-509006
出願日: 2005年08月01日
公開日(公表日): 2008年03月27日
要約:
標本からの材料の高速除去は、様々な円形(50)及びスパイラル状(70,90、110)レーザツールパターンに沿ってレーザビーム軸を指向するのにビーム位置決め器を使用する。材料除去の好ましい方法は、ビームの軸と標本との間に相対運動を引き起こすこと、入口セグメント加速度で入口軌跡(18,52)に沿ってレーザビームパルス放射(58)が開始される標本内の入口位置(16,54)へビーム軸を指向すること、標本の円形セグメント(40)に沿って材料を除去するために標本内の円形周囲加速度でビーム軸を移動すること、そして入口セグメント加速度を2倍未満の円形周囲加速度に設定することを要する。【選択図】図16
請求項(抜粋):
レーザツールの操作により標本のターゲット領域から材料の高速除去を行う方法であって、前記ターゲット領域はターゲット中心を通して延びるターゲット直径によって規定される実質的に円形のターゲット周囲を有し、前記レーザツールはレーザビームが伝播するビーム軸を規定しており、前記レーザビームは前記ターゲット領域に前記ターゲット直径より小さい直径を有するレーザスポットを規定しており、 前記ターゲット領域から材料除去のプロセスを可能にするために前記ターゲット領域内の選択位置又は前記ターゲット領域に近い及び前記ターゲット領域内の選択位置へ前記ビーム軸を指向するために前記ビーム軸及び前記ターゲット領域間の相対運動を引き起こすこと、 入口セグメント加速度で入口軌跡に沿って前記ビーム軸を前記ターゲット領域内の入口位置へ指向すること、 前記レーザスポットを位置決めするために、そしてそれにより前記ターゲット周囲の円形セグメントに沿って材料を除去するために前記ターゲット領域内で円形周囲加速度にて前記ビーム軸を移動させること、 前記入口セグメントの加速度及び前記円形周囲加速度を、前記入口セグメントの加速度の値が2倍の前記円形周囲加速度の値より小さいような値に設定することを含み、前記入口位置は前記レーザビームが前記ターゲット領域で開始される位置に対応する、材料の高速除去方法。
IPC (5件):
B23K 26/38 ,  B23K 26/40 ,  B23K 26/08 ,  B23K 26/00 ,  H05K 3/00
FI (5件):
B23K26/38 330 ,  B23K26/40 ,  B23K26/08 B ,  B23K26/00 M ,  H05K3/00 N
Fターム (4件):
4E068AF00 ,  4E068CA15 ,  4E068DA10 ,  4E068DA11
引用特許:
審査官引用 (5件)
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