特許
J-GLOBAL ID：200903015688343111
基板、とりわけ電気回路基板においてレーザビームによって孔を穿つための方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
矢野 敏雄
, 山崎 利臣
, 久野 琢也
, アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, ラインハルト・アインゼル
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-572347
公開番号（公開出願番号）：特表2005-518679
出願日： 2003年02月04日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：
電気回路基板に孔を穿つ際にレーザビーム(4)は穿つべき孔の領域において同心円状の円軌道を動かされる。1つの円軌道(K1〜K5)から次の円軌道への移行はその都度弧(b1〜b4)で行われ、この弧(b1〜b4)は最後に通過した円軌道からほぼ接線方向に遠ざかり、新たに描くべき円軌道へとほぼ接線方向から近づき、その都度新しい円軌道の開始点は前の円軌道の開始点に対して所定の角度だけオフセットされている。これによってレーザビームの均一なエネルギ分布及び穿たれた孔の改善された円形が得られる。
請求項（抜粋）：
基板、とりわけ電気回路基板においてレーザビームによって孔を穿つための方法であって、レーザビーム(4)は、基板上で穿つべき孔(14、15)の領域にセンタリングされ、次いで孔直径(D1)より小さいビームスポット直径(F1)によって段階的に変わる半径を有する複数の同心円軌道で孔の断面積内を移動する、基板、とりわけ電気回路基板においてレーザビームによって孔を穿つための方法において、
1つの円軌道からその都度次の異なる半径を有する円軌道(K1〜K5)への移行はそれぞれ弧(b1〜b6)の形で行われ、前記弧(b1〜b6)は最後に通過した円軌道(K1〜K5)からほぼ接線方向に遠ざかり、新しく描くべき円軌道(K2〜K6)にほぼ接線方向から近づき、その都度新しい円軌道(K2〜K6)の開始点(A〜E;A1〜E2)は前の円軌道(K1〜K5)の開始及び終了地点に対して所定の角度だけオフセットされていることを特徴とする、基板、とりわけ電気回路基板においてレーザビームによって孔を穿つための方法。
IPC (3件)：
H05K3/00
, B23K26/00
, B23K26/08
H05K3/00 N
, B23K26/00 330
, B23K26/08 B
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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