特許

J-GLOBAL ID：200903069107442168

プラズマ処理装置

発明者： 横川 賢悦 ,  丹藤 匠 ,  菅野 誠一郎
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-202715
公開番号（公開出願番号）：特開2008-034408
出願日： 2006年07月26日
公開日（公表日）： 2008年02月14日
要約：

【課題】試料の処理中にその面内に生じる温度差を抑制し、処理の均一性を向上できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】真空容器と、この真空容器内部に配置されて上部に試料が載置される試料載置面を有した試料台とを備え、前記処理室内にプラズマを形成して前記試料載置面上に載置された試料を処理するプラズマ処理装置であって、前記試料台内部に配置され内部に冷媒が供給される空間と、前記試料載置面と対向して配置され前記冷媒が複数箇所から衝突する前記空間の天井面と、前記天井面と衝突して蒸発した冷媒が前記試料台から排出される排出口とを備えたプラズマ処理装置。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

真空容器と、この真空容器内部に配置されて上部に試料が載置される試料載置面を有した試料台とを備え、前記処理室内にプラズマを形成して前記試料載置面上に載置された試料を処理するプラズマ処理装置であって、 前記試料台内部に配置され内部に冷媒が供給される空間と、前記試料載置面と対向して配置され前記冷媒が複数箇所から衝突する前記空間の天井面と、前記天井面と衝突して蒸発した冷媒が前記試料台から排出される排出口とを備えたプラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/205

FI (2件)：

H01L21/302 101G ,  H01L21/205

Fターム (26件)：

5F004AA01 ,  5F004BA04 ,  5F004BB11 ,  5F004BB13 ,  5F004BB25 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004BC03 ,  5F004BC04 ,  5F004CA03 ,  5F004CA04 ,  5F004DB00 ,  5F004DB03 ,  5F004DB07 ,  5F004DB14 ,  5F004DB30 ,  5F004EB01 ,  5F045AA08 ,  5F045BB02 ,  5F045EH02 ,  5F045EH14 ,  5F045EJ03 ,  5F045EJ09 ,  5F045EJ10 ,  5F045EK07 ,  5F045EK22

引用特許：

出願人引用 (1件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-284368   出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立ハイテクノロジーズ

審査官引用 (2件)

• 温度調節装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-335657   出願人：テイサン株式会社
• サセプタ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-312796   出願人：伸和コントロールズ株式会社