レーザビーム露光装置、レーザビーム波長変調方法及び装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-064713
公開番号（公開出願番号）：特開2001-255603
出願日： 2000年03月09日
公開日（公表日）： 2001年09月21日
要約：

【要約】【課題】光学調整が簡単でありかつ光量の損失を抑え、干渉ムラによる濃度変動のないレーザビーム露光装置を提供する。【解決手段】このレーザビーム露光装置は、使用する波長に対して透過性または半透過性である支持体層または感光層を少なくとも1つ有する感光材料Fに対しレーザ光源125,127からレーザビームを照射し露光する。レーザビームにより照射される1本の走査線または連続した複数本の走査線からなるビーム照射域を1つの線状領域とし、隣接する線状領域間で、照射するレーザビームの光量分配比率を変える。また、レーザビームを照射する1個または複数個の画素で囲まれたビーム照射領域を1つの画素域とし、隣接する画素間で照射するレーザビームの光量分配比率を変えるようにしてもよい。また、線状領域と隣接する線状領域との間で、または画素域と隣接する画素域との間で、照射を行うレーザ光源のレーザ素子の温度を変えてもよい。

請求項（抜粋）：

使用する波長に対して透過性または半透過性である支持体層または感光層を少なくとも1つ有する感光材料に対しレーザ光源からレーザビームを照射し露光するレーザビーム露光装置であって、前記レーザビームにより照射される1本の走査線または連続した複数本の走査線からなるビーム照射域を1つの線状領域と定義し、隣接する前記線状領域間で、照射するレーザビームの光量分配比率を変えることを特徴とするレーザビーム露光装置。

IPC (9件)：

G03B 27/72 , G02B 26/10 , G02B 26/10 103 , G02B 27/28 , G03C 5/08 351 , G03D 13/00 , H04N 1/113 , H04N 1/23 103 , B41J 2/44

FI (11件)：

G03B 27/72 A , G02B 26/10 B , G02B 26/10 D , G02B 26/10 103 , G02B 27/28 Z , G03C 5/08 351 , G03D 13/00 A , G03D 13/00 G , H04N 1/23 103 Z , H04N 1/04 104 A , B41J 3/00 D

Fターム (49件)：

2C362AA04 , 2C362AA09 , 2C362AA60 , 2C362BA64 , 2C362CB59 , 2H045AA01 , 2H045BA02 , 2H045BA22 , 2H045BA32 , 2H045DA02 , 2H045DA41 , 2H099AA00 , 2H099BA09 , 2H099CA02 , 2H099CA07 , 2H110AA01 , 2H110AA17 , 2H110AA19 , 2H110AA22 , 2H110AA23 , 2H110CD14 , 2H112AA03 , 2H112AA11 , 2H112BC32 , 2H123AB00 , 2H123AB03 , 2H123AB23 , 2H123CA00 , 2H123CA22 , 2H123CB00 , 2H123CB03 , 5C072AA03 , 5C072BA18 , 5C072HA02 , 5C072HA06 , 5C072HA08 , 5C072HA13 , 5C072HB01 , 5C072HB04 , 5C072HB06 , 5C072HB08 , 5C072VA03 , 5C074AA03 , 5C074BB03 , 5C074BB25 , 5C074CC22 , 5C074CC26 , 5C074DD08 , 5C074HH02

引用特許：

審査官引用 (5件)

画像記録装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-207958 出願人：富士写真フイルム株式会社
画像形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-206612 出願人：富士写真フイルム株式会社
画像形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-092548 出願人：キヤノン株式会社

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