特許
J-GLOBAL ID:200903069171240412

感光体用基体の再生方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-023328
公開番号(公開出願番号):特開2000-221704
出願日: 1999年02月01日
公開日(公表日): 2000年08月11日
要約:
【要約】【課題】 感光体用基体の再生方法であり、特に、中古、製造不良品等の複写機、プリンター等の電子写真画像形成装置用の有機感光体から、再利用可能な導電性基体を、容易な処理で、低廉なコストで、回収できる感光体用基体の再生方法を提供することである。【解決手段】 基体上に少なくとも下引き層及び感光層を積層させてなる感光体から、前記感光体上の積層物を除去させて前記基体を再利用するに際して、前記積層物を剥離液で一度に膨潤・剥離させるか又は上層の前記感光層を溶解除去させた後、下引き層を前記剥離液で膨潤・剥離させるかして、基体表面を露出させた後、洗浄液を含浸する部材で摺擦処理する感光体用基体の再生方法。
請求項(抜粋):
基体上に少なくとも下引き層及び感光層を積層させてなる感光体から、前記基体上の積層物を除去させて前記基体を再利用するに際して、前記積層物を剥離液で一度に膨潤・剥離させるか又は上層の前記感光層を溶解除去させた後、下引き層を前記剥離液で膨潤・剥離さるかして、基体表面を露出させた後、洗浄液を含侵する部材で摺擦処理することを特徴とする感光体用基体の再生方法。
IPC (3件):
G03G 5/00 101 ,  G03G 15/00 550 ,  G03G 21/00 350
FI (3件):
G03G 5/00 101 ,  G03G 15/00 550 ,  G03G 21/00 350
Fターム (5件):
2H035CB02 ,  2H068AA21 ,  2H068EA47 ,  2H071DA15 ,  2H071EA00
引用特許:
審査官引用 (13件)
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