特許
J-GLOBAL ID：200903069180296927
イオンビーム発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-253002
公開番号（公開出願番号）：特開2009-087594
出願日： 2007年09月28日
公開日（公表日）： 2009年04月23日
要約：
【課題】既存のSIMS用イオンビーム発生技術においては、イオン種がほぼ3種類(C60+、Au3+、Bi3+)に限定されているのが現状であり、より大きな分子量を有するイオン種を生成できるイオンビーム源が求められている。また、従来のクラスターイオンビーム発生装置は、プラスの電荷を有する正イオンビームのみを生成するタイプがほとんどであり、負イオンのクラスターイオンビーム源が望まれていた。【解決手段】本願発明においては、「イオン液体」を含有する溶液をエレクトロスプレー法により気相中に放出させ、必要なイオンのみをイオン源内部に輸送する構造とした。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
イオンビーム発生方法において、イオン液体を含有する溶液をエレクトロスプレー法により気相中に放出させ、必要なイオンのみを利用することを特徴とするイオンビーム発生方法。
IPC (3件)：
H01J 27/02
, H01J 37/08
, H01J 49/10
H01J27/02
, H01J37/08
, H01J49/10
5C030DF01
, 5C030DG01
, 5C030DG03
, 5C030DG05
, 5C038GG08
